2 polegadas/4 polegadas/6 polegadas/5,0*5,0 mm/10,0*10,0 mm Sic Substrato de Carbono de Silício Tipo 3C-N No eixo: < 111 > ± 0,5° Grau de produção Grau de simulação
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Substrato de carburo de silício Sic de 2 polegadas 6H Baixa resistência Tipo dopado de P alto Diâmetro 50,8 mm
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Substrato 3C-SiC tipo N Categoria de produto para comunicações 5G
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CVD SiC Epitaxy Wafer 2 polegadas 3 polegadas 4 polegadas 6 polegadas espessura de epitaxia 2,5-120 um para energia eletrônica
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Bolacha Epitaxial SiC Tipo 4H-N de 2 polegadas de diâmetro (50,8 mm) para Sensores de Alta Temperatura
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2 polegadas 4 polegadas 6 polegadas 8 polegadas 5×5 mm 10×10 mm 4H-SiC Substratos 3C-N Tipo MOS Grau
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Substrato de carburo de silício de 6 polegadas 4H-P Diâmetro 150 mm Espessura 350 μm Zero MPD Produção, grau de produção padrão