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Wafer de carburo de silício tipo 4H-P no eixo 0° Utilizado para fabricação de dispositivos de alta potência

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: ZMSH

Certificação: rohs

Número do modelo: SiC 4H-P

Termos de pagamento e envio

Preço: by case

Termos de pagamento: T/T

Habilidade da fonte: 1000pc/month

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Destacar:

0° Wafer de carburo de silício Sic

Polytype:
4H-P
Densidade:
3,23 G/cm3
Dureza de Mohs:
≈9.2
Orientação de superfície:
No eixo: [1120] ± 0,5° para 4H-P
Embalagem:
Embalagem asséptica única e independente, nível de limpeza 100
Aplicação:
Chip LED, comunicação por satélite
Polytype:
4H-P
Densidade:
3,23 G/cm3
Dureza de Mohs:
≈9.2
Orientação de superfície:
No eixo: [1120] ± 0,5° para 4H-P
Embalagem:
Embalagem asséptica única e independente, nível de limpeza 100
Aplicação:
Chip LED, comunicação por satélite
Wafer de carburo de silício tipo 4H-P no eixo 0° Utilizado para fabricação de dispositivos de alta potência

Descrição do produto:Wafer de carburo de silício tipo 4H-P no eixo 0° Utilizado para fabricação de dispositivos de alta potência 0

 

Wafer de carburo de silício tipo 4H-P no eixo 0° Utilizado para fabricação de dispositivos de alta potência

 

 
O substrato de carburo de silício de tipo 4H-P é um material semicondutor com uma estrutura de rede hexagonal,e a condutividade do tipo P é obtida por um processo específico de dopagem (como dopagem de alumínio e outros elementos)Tais substratos têm tipicamente altas concentrações de dopagem e baixa resistividade, tornando-os ideais para a fabricação de dispositivos de alta potência.Um eixo de 0° refere-se geralmente ao fato de que uma determinada direção cristalina ou borda de posicionamento do substrato tem um Ângulo de 0° a partir de uma direção de referência (como o plano do substrato), o que contribui para garantir a consistência e a fiabilidade do dispositivo nos processos de fabrico subsequentes.
 
 
 


Wafer de carburo de silício tipo 4H-P no eixo 0° Utilizado para fabricação de dispositivos de alta potência 1

Características:

 

  • Espaço de banda larga:O carburo de silício tipo 4H-P tem um intervalo de banda larga de cerca de 3,26 eV, o que lhe permite trabalhar de forma estável em ambientes de alta temperatura e alta tensão.

 

  • Alta condutividade térmica:Com uma condutividade térmica de cerca de 4,9 W / m · K, muito superior aos materiais de silício, pode efetivamente direcionar e dissipar o calor, adequado para aplicações de alta densidade de potência.

 

  • Baixa resistividade:O carburo de silício dopado de tipo P tem uma baixa resistividade, adequada para a construção de junções PN, de modo a satisfazer as necessidades de dispositivos de alta potência.

 

  • Alta dureza e resistência mecânica:Os materiais de carburo de silício possuem uma resistência mecânica e resistência muito elevadas para aplicações em condições adversas.

 

  • Alta tensão de ruptura:Capaz de suportar tensões mais elevadas, ajudando a reduzir o tamanho do dispositivo e melhorar a eficiência energética.

 

 


 

Parâmetro técnico

 

Propriedade

Tipo P 4H-SiC, cristal único

Parâmetros da malha

a=3,082 Å c=10,092 Å

Sequência de empilhamento

ABCB

Dureza de Mohs

≈9.2

Densidade

30,23 g/cm3

Coeficiente de expansão térmica

4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)

Índice de refração @750nm

no = 2.621 ne = 2.671

Constante dielétrica

c~9.66

Conductividade térmica

3 a 5 W/cm·K@298K

Falta de frequência

3.26 eV

Campo elétrico de ruptura

2-5×106V/cm

Velocidade da deriva de saturação

2.0×105m/s

Orientação da wafer

No eixo: [1120] ± 0,5° para 4H/6H-P

 
 


Wafer de carburo de silício tipo 4H-P no eixo 0° Utilizado para fabricação de dispositivos de alta potência 2

Aplicações:

  • Eletrónica de potência:O substrato de carburo de silício tipo 4H-P pode ser usado para fabricar todos os tipos de dispositivos de alta tensão, como IGBT, MOSFET, etc. Estes dispositivos são amplamente utilizados na transmissão de energia CC,conversor de frequência, fornecimento industrial de energia e outros domínios, em especial nos veículos eléctricos e tecnologias de energia renovável,Os dispositivos de carburo de silício podem melhorar significativamente a eficiência de conversão de energia e reduzir o consumo de energia.

 

  • Campo de iluminação de semicondutores:Pode ser utilizado para a fabricação de chips LED de alta eficiência e alta fiabilidade, que são amplamente utilizados em iluminação de tela de cristal líquido, iluminação de paisagem, luzes automotivas e outros campos.A alta condutividade térmica do substrato de carburo de silício ajuda a melhorar a eficiência luminosa e a estabilidade do LED.

 

  • Campo de sensores:podem ser utilizados para a fabricação de sensores de alta sensibilidade e alta estabilidade, tais como sensores de pressão, sensores de temperatura, etc. Estes sensores têm aplicações importantes na electrónica automóvel,equipamento médicoA elevada estabilidade a temperaturas e a inércia química dos substratos SIC tornam-no um material ideal para a fabricação de sensores de elevada fiabilidade.

 

  • Campo de radiofrequências de microondas:Embora o substrato N de carburo de silício seja amplamente utilizado neste campo,O substrato de carburo de silício do tipo 4H-P pode também ser utilizado por processos específicos para fabricar dispositivos eletrónicos de alta frequência e de alta potência, tais como amplificadores, osciladores, etc. Estes dispositivos têm aplicações potenciais na comunicação sem fios, comunicação por satélite, radar e outros campos.

 

 


Wafer de carburo de silício tipo 4H-P no eixo 0° Utilizado para fabricação de dispositivos de alta potência 3

Personalização:

 


 


A ZMSH fornece uma gama completa de serviços de substrato de carburo de silício 4H-P (eixo 0°), incluindo processamento personalizado de precisão para atender às necessidades específicas do cliente,A utilização de canais de logística profissionais para garantir a segurança dos produtos e a entrega pontual, e a utilização de materiais de embalagem à prova de choques e à prova de umidade cuidadosamente embalados e entregues para garantir a entrega de substratos de carburo de silício de alta qualidade.
 

 

 

 

 


 

Perguntas frequentes:

 


1Q: Qual é a diferença entre o substrato de carburo de silício tipo 4H-P e tipo 6H?


R: Em comparação com o 6H, o substrato SIC 4H-P tem maior mobilidade eletrônica e melhor condutividade térmica, o que é adequado para a fabricação de dispositivos de alta potência.
 


2Q: Qual é o efeito do eixo 0° no desempenho do substrato de carburo de silício?


R:A fixação do eixo a 0° ajuda a garantir a consistência e a fiabilidade do dispositivo no processo de fabrico subsequente.Melhoria do desempenho elétrico e da estabilidade do dispositivo.
 
 

 


 
Tag: #Sic wafer, #substrato de carburo de silício, tipo #4H-P, #eixo 0°, #alta pureza, #Sic tipo 4H-P
 

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