Enviar mensagem
SOBRE E.U.
O seu parceiro profissional e confiável.
O COMÉRCIO FAMOSO CO. de SHANGHAI, LTD. localiza na cidade de Shanghai, que é a melhor cidade de China, e nossa fábrica é fundada na cidade de Wuxi em 2014. Nós especializamo-nos em processar uma variedade de materiais nas bolachas, nas carcaças e no vidro ótico custiomized parts.components amplamente utilizados na eletrônica, no sistema ótico, na ótica electrónica e nos muitos outros campos. Nós temos trabalhado igualmente proximamente com muitos domésticos e as universidades, as instituições ...
Aprenda mais

0

Ano estabelecido

0

Milhões+
Vendas anuais
China SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD Alta Qualidade
Selo de confiança, verificação de crédito, RoSH e avaliação da capacidade do fornecedor. A empresa tem um rigoroso sistema de controlo de qualidade e um laboratório de teste profissional.
China SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD DESENVOLVIMENTO
Equipe interna de design profissional e oficina de máquinas avançadas.Podemos cooperar para desenvolver os produtos que você precisa.
China SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD Fabricação
Máquinas automáticas avançadas, sistema de controle estrito de processo.Podemos fabricar todos os terminais elétricos além de sua demanda.
China SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD SERVIÇO 100%
Pequenas embalagens a granel e customizadas, FOB, CIF, DDU e DDP.Deixe-nos ajudá-lo a encontrar a melhor solução para todas as suas preocupações.

Qualidade Bolacha do nitreto do gálio & Bolacha da safira fabricante

Encontre produtos que melhor atendam às suas necessidades.
Casos e Notícias
Os últimos pontos quentes
Estudo de caso da ZMSH: fornecedor principal de safira sintético de alta qualidade
Estudo de caso da ZMSH: fornecedor principal de safira sintético de alta qualidade     IntroduçãoA ZMSH é um dos principais nomes na indústria de pedras preciosas sintéticas, fornecendo uma ampla gama de safiras de alta qualidade e de cores vibrantes.As nossas ofertas incluem uma ampla paleta de cores como o azul real, vermelho vivo, amarelo, rosa, rosa-laranja, roxo e vários tons verdes, incluindo esmeralda e verde oliveira.A ZMSH tornou-se um parceiro preferido para as empresas que necessitam de, visualmente impressionantes e duráveis pedras preciosas sintéticas. Destacando nossas pedras preciosas sintéticasO núcleo da gama de produtos da ZMSH são safires sintéticos que imitam o brilho e a qualidade das pedras preciosas naturais, oferecendo inúmeras vantagens.Esses zafiros são cuidadosamente fabricados para alcançar uma consistência de cor excepcional e durabilidade, tornando-as uma alternativa superior às pedras naturais. Benefícios de escolher safires sintéticos Consistência incomparávelOs nossos zafiros criados em laboratório são produzidos em condições controladas, garantindo que cumpram com rigorosos padrões de qualidade.livre das variações de cor e clareza frequentemente vistas nas pedras preciosas extraídas. Escolha ampla de cores: ZMSH oferece uma variedade de cores, incluindo azul real, vermelho rubi e tons mais suaves como rosa e rosa-laranja.adaptados às exigências específicas dos clientesEsta flexibilidade na personalização de cores e tons torna as nossas safiras perfeitas para uma ampla gama de propósitos industriais e de design. Preços acessíveis: As safiras cultivadas em laboratório apresentam uma alternativa mais econômica sem sacrificar o apelo visual ou a integridade estrutural.Oferecem um excelente valor para os clientes que precisam de pedras preciosas de alta qualidade a uma fração do custo das pedras naturais, tornando-os ideais para produtos de luxo e aplicações práticas. Ambiental e ético: Ao optar por pedras preciosas sintéticas, os clientes podem evitar os danos ambientais e as preocupações éticas frequentemente associadas à extracção tradicional de pedras preciosas.Os zafiros sintéticos da ZMSH são criados de forma ecológica, oferecendo uma escolha sustentável e responsável. Força e versatilidade: As safiras sintéticas possuem a mesma dureza que suas contrapartes naturais, tornando-as ideais para uma variedade de usos, desde jóias de alta qualidade até aplicações industriais.Com uma dureza de 9 na escala de Mohs, estas gemas garantem durabilidade duradoura em todos os ambientes   ConclusãoA ZMSH dedica-se a fornecer zafiros sintéticos coloridos de alto nível, oferecendo aos clientes uma variedade de soluções de pedras preciosas personalizáveis, econômicas e sustentáveis.Quer estejas à procura de azul real para acessórios elegantes, verde esmeralda para componentes industriais, ou qualquer outra cor marcante, ZMSH fornece pedras preciosas que combinam beleza, consistência e força.A nossa experiência na produção de zafiros sintéticos permite-nos satisfazer as necessidades de várias indústrias, assegurando uma qualidade fiável e práticas éticas em todas as ordens.
Estudo de caso: Avanço da ZMSH com o novo substrato 4H/6H-P 3C-N SiC
Introdução A ZMSH tem sido consistentemente na vanguarda da inovação em wafer e substrato de carburo de silício (SiC), conhecida por fornecer alto desempenho6H-SiCe4H-SiCPara responder à crescente procura por materiais mais capazes em aplicações de alta potência e alta frequência,A ZMSH expandiu a sua oferta de produtos com a introdução do4H/6H-P 3C-N SiCEste novo produto representa um salto tecnológico significativo, combinando osPolitipo SiC 4H/6Hsubstratos com inovação3C-N SiCA Comissão propõe que a Comissão apresente uma proposta de regulamento que estabeleça um novo nível de desempenho e de eficiência para os dispositivos de próxima geração. Análise geral dos produtos existentes: Substratos de 6H-SiC e 4H-SiC Características fundamentais Estrutura cristalina: Tanto o 6H-SiC como o 4H-SiC possuem estruturas cristalinas hexagonais.Considerando que o 4H-SiC possui uma maior mobilidade eletrónica e um intervalo de banda mais alargado de 3.2 eV, tornando-o adequado para aplicações de alta frequência e alta potência. Conductividade elétrica: Disponível em opções de tipo N e semi-isolação, permitindo flexibilidade para várias necessidades do dispositivo. Conductividade térmica: Estes substratos apresentam condutividades térmicas que variam de 3,2 a 4,9 W/cm·K, o que é essencial para dissipar o calor em ambientes de alta temperatura. Força mecânica: Os substratos apresentam uma dureza de Mohs de 9.2, proporcionando robustez e durabilidade para utilização em aplicações exigentes. Utilizações típicas: Comumente utilizado em eletrônicos de potência, dispositivos de alta frequência e ambientes que requerem resistência a altas temperaturas e radiação. DesafiosEnquanto6H-SiCe4H-SiCOs componentes de alta potência, de alta temperatura e de alta frequência são altamente valorizados, encontram certas limitações em cenários específicos de alta potência, alta temperatura e alta frequência.e a distância de banda mais estreita limitam a sua eficácia para aplicações da próxima geraçãoO mercado exige cada vez mais materiais com melhor desempenho e menos defeitos para assegurar uma maior eficiência operacional. Inovação de novos produtos: Substratos de SiC 4H/6H-P 3C-N Para ultrapassar as limitações dos seus anteriores substratos de SiC, a ZMSH desenvolveu o4H/6H-P 3C-N SiCEste novo produto aproveitacrescimento epitaxialde películas de SiC 3C-NSubstratos de politipo 4H/6H, proporcionando propriedades eletrónicas e mecânicas melhoradas. Principais melhorias tecnológicas Politipo e integração de filmeO3C-SiCOs filmes são cultivados epitaxialmente utilizandodeposição química de vapor (CVD)emSubstratos de 4H/6H, reduzindo significativamente a incompatibilidade da rede e a densidade de defeitos, levando a uma melhor integridade do material. Mobilidade eletrônica melhoradaO3C-SiCO filme oferece uma mobilidade de elétrons superior em comparação com o tradicionalSubstratos de 4H/6H, tornando-o ideal para aplicações de alta frequência. Melhoria da tensão de ruptura: Os ensaios indicam que o novo substrato oferece uma tensão de ruptura significativamente mais elevada, tornando-o mais adequado para aplicações de elevada energia. Redução de defeitos: Técnicas de crescimento otimizadas minimizam defeitos e deslocamentos dos cristais, garantindo estabilidade a longo prazo em ambientes desafiadores. Capacidades optoeletrônicas: O filme 3C-SiC também introduz características optoeletrônicas únicas, particularmente úteis para detectores ultravioleta e várias outras aplicações optoeletrônicas. Vantagens do novo substrato 4H/6H-P 3C-N SiC Mobilidade eletrônica e resistência à degradação mais elevadasO3C-N SiCO filme garante uma estabilidade e eficiência superiores em dispositivos de alta potência e alta frequência, resultando em uma vida útil operacional mais longa e um desempenho mais elevado. Melhoria da condutividade térmica e estabilidade: Com capacidades de dissipação de calor melhoradas e estabilidade a temperaturas elevadas (acima de 1000°C), o substrato é adequado para aplicações de alta temperatura. Aplicações optoeletrônicas expandidas: As propriedades optoelectrónicas do substrato ampliam o seu âmbito de aplicação, tornando-o ideal para sensores ultravioleta e outros dispositivos optoelectrónicos avançados. Maior durabilidade química: O novo substrato apresenta uma maior resistência à corrosão e oxidação químicas, o que é vital para utilização em ambientes industriais adversos. Áreas de aplicação O4H/6H-P 3C-N SiCO substrato é ideal para uma ampla gama de aplicações de ponta devido às suas propriedades elétricas, térmicas e optoeletrônicas avançadas: Eletrónica de potência: A sua tensão de ruptura superior e a sua gestão térmica tornam-no o substrato de escolha para dispositivos de alta potência, tais comoMOSFETs,IGBTs, eDiodos de Schottky. Dispositivos de RF e microondas: A elevada mobilidade dos elétrons garante um desempenho excepcional em alta frequênciaRFeaparelhos de microondas. Detectores de ultravioleta e optoeletrónica: As propriedades optoelectrónicas de3C-SiCtorná-lo particularmente adequado paraDetecção UVe vários sensores optoelectrônicos. Conclusão e recomendação do produto A ZMSH lançou o4H/6H-P 3C-N SiCEste produto inovador, com a sua mobilidade eletrónica melhorada, a sua densidade de defeito reduzida, a sua capacidade de absorção de energia e a sua capacidade de absorção de energia,e tensão de ruptura melhorada, está bem posicionada para satisfazer as crescentes demandas dos mercados de potência, frequência e optoeletrónica.A sua estabilidade a longo prazo em condições extremas também a torna uma escolha altamente fiável para uma série de aplicações. A ZMSH encoraja os seus clientes a adoptarem a4H/6H-P 3C-N SiCSubstrato para tirar partido das suas capacidades de desempenho de ponta.Este produto não só cumpre os requisitos rigorosos dos dispositivos de próxima geração, mas também ajuda os clientes a obter uma vantagem competitiva num mercado em rápida evolução.   Recomendação do produto   Substrato SiC de tipo N de 4 polegadas de 3C Substrato de carburo de silício espessura 350um Prime Grade Dummy Grade       - apoiar as personalizadas com desenhos gráficos   - um cristal cúbico (3C SiC), obtido a partir de monocristal SiC   - Alta dureza, dureza de Mohs chega a 9.2, só atrás do diamante.   - excelente condutividade térmica, adequada para ambientes de alta temperatura.   - características de banda larga, adequadas para dispositivos electrónicos de alta frequência e de alta potência.
Warlink Kona ----- Germânio a nitruro de silício guias de onda fotônicos integrados de infravermelho médio
Warlink Kona ----- Germânio a nitruro de silício guias de onda fotônicos integrados de infravermelho médio   Introdução   Uma plataforma de germânio com grande contraste do índice de revestimento do núcleo, germânio nitrido de silício, foi demonstrada no comprimento de onda do infravermelho médio.A viabilidade desta estrutura é verificada por simulaçãoEsta estrutura é obtida pela primeira ligação de wafers doadores de germânio sobre silício depositados com nitruro de silício para wafers de substrato de silício,e, em seguida, obtendo a estrutura de nitruro de germânio em silício pelo método de transferência de camadas, que é escalável para todos os tamanhos de wafer.   Introdução   A fotônica baseada em silício recebeu muita atenção nos últimos anos devido à sua compatibilidade com processos CMOS e seu potencial de integração com a microeletrônica.Os pesquisadores têm tentado estender o comprimento de onda operacional da fotônica ao infravermelho médio (MIR), definido aqui como 2-15 μm, porque há aplicações promissoras em MIR, como comunicações de próxima geração, detecção bioquímica, monitoramento ambiental e muito mais.O silício em isoladores padrão (SOI) não é adequado para MIR porque a perda de material para enterrar camadas de óxido torna-se muito alta a 3Foram feitos muitos esforços para encontrar um sistema de material alternativo que pudesse funcionar no Mir.A tecnologia de guias de onda do silício sobre safira (SOS) foi prosseguida para alargar a gama de comprimentos de onda operacionais para 4.4lm. Os guias de onda de nitruro de silício (SON), que fornecem uma ampla faixa de transparência de 1,2-6,7 μm, também foram propostos.tornando-a uma boa alternativa ao SOI.   O germânio no isolante (GOI) foi proposto, e os guias de onda passivos e os moduladores de germânio ativo foram fabricados na plataforma, mas como mencionado acima,enterrar camadas de óxido realmente limita a transparência da plataformaTambém foi relatado que o germânio no SOI tem vantagens elétricas.A plataforma de germânio no silício (GOS) é actualmente amplamente utilizada na investigação fotónica e já alcançou uma série de conquistas impressionantesA perda de propagação mais baixa do guia de ondas de germânio nesta plataforma é relatada apenas ter uma perda de 0,6 dB/cm. No entanto, o germânio (n.o 4.O raio de curvatura do GOS deve ser correspondentemente superior ao raio de curvatura do SOI., resultando na área de cobertura dos dispositivos no chip GOS geralmente maior que o SOI.O que é necessário é uma melhor plataforma de guia de ondas de germânio alternativa que forneça maior contraste do índice de refração do revestimento do núcleo do que o GOS, bem como uma transparência útil e um raio de curvatura do canal menor.   Para atingir estes objectivos, a estrutura proposta e implementada neste trabalho é o nitruro de germânio no silício, aqui chamado GON.O índice de refração do nosso nitruro de silício PECVD (SiNx) foi medido por ellipsometria a 3.8lm. A transparência de SiNx é geralmente de até cerca de 7,5 mm. Assim, o contraste exponencial em GON é. Uma vez que esta plataforma Ge operando na faixa MIR é implementada, a sua transparência é de cerca de 7,5 mm.haverá muitos dispositivos fotônicos passivos que podem ser fabricados com uma pegada compactaPara fazer um anel compacto, é necessário um pequeno raio de curvatura,que só é possível em guias de onda de alto contraste com fortes limitações ópticasNo futuro, dispositivos de detecção compactos também podem ser realizados com base em ressonadores de micro-anel com tais plataformas de germânio.Desenvolvemos uma tecnologia viável e escalável de ligação de wafer e transferência de camadas para implementar o GON.   Experimento   As plataformas de germânio/sílico podem ser fabricadas através de várias tecnologias, incluindo a condensação de germânio, a epitaxia na fase líquida e as técnicas de transferência de camadas.quando o germânio é cultivado diretamente no nitruro de silício, a qualidade dos cristais de germânio é esperada ser pobre e uma alta densidade de defeitos é formada     Gráfico 2. Em comparação com o GOS, a perda de curvatura simulada do governo do Nepal é menor, indicando que a perda de curvatura do governo do Nepal é menor.   Como o SiNx é amorfo, esses defeitos aumentam as perdas de dispersão. Neste trabalho, utilizamos técnicas de ligação de wafer e transferência de camadas para fabricar GON, como mostrado na Figura 2.As bolhas doadoras de silício usam deposição de vapor químico a pressão reduzida (RPCVD) e um processo de crescimento de germânio em três etapas.22 A camada epitaxial de germânio é então revestida com nitruro de silício e transferida para outro substrato de silício para obter wafers GON.Alguns chips de silício de germânio (GOS) (que crescem de forma semelhante, mas não transferem) foram incluídos em experimentos subsequentesA camada final de germânio tem geralmente uma densidade de dislocação por penetração (TDD) de < 5106 cm2, rugosidade da superfície < 1 nm e tensão de tração de 0,2%.23a bolacha doadora é limpa para obter uma superfície livre de óxidos e contaminantesApós o processo de limpeza, as bolinhas doadoras são carregadas no sistema Cello PECVD para a deposição da tensão SiNx.O recozimento durante algumas horas após a deposição garante que os gases presos na wafer sejam liberados durante a deposição.   Todos os tratamentos térmicos são realizados a temperaturas inferiores a 40 °C. Além disso, é depositado mais 1 mm de SiNx na parte de trás da bolacha para compensar o efeito de dobra.Por deposição química de vapor de plasma a baixa temperaturaA camada de ligação é de sílica, o que facilita a ligação com outra bolacha tratada com silício.As moléculas de água são formadas na reação de ligaçãoPor conseguinte, a sílica foi escolhida como camada de ligação porque pode absorver estas moléculas de água, proporcionando assim uma elevada qualidade de ligação.A camada de ligação é polida quimicamente mecânicamente (polida quimiomecânica) a 100 nm para reduzir a rugosidade da superfície e torná-la adequada para ligação de wafer.Antes da ligação, ambas as superfícies são expostas ao plasma de O2 por cerca de 15 segundos para melhorar a hidroflicidade da superfície.   Após isso, é adicionada a etapa de lavagem Adi para aumentar a densidade do grupo hidroxilo superficial, desencadeando assim a ligação.Os pares de wafers ligados são então aquecidos por cerca de 4 horas após a ligação a temperaturas abaixo de 30 ° C para melhorar a resistência da ligaçãoPara concluir o processo de transferência de camadas, a imagem de ligação é examinada usando imagens infravermelhas para verificar a formação de vácuo interfacial.a bolacha de doador de silício superior é moída para transferir a camada de germânio/nitruro de silício sobre a bolacha do substratoA partir daí, a borracha de silicone é cortada por um processo de gravação em húmido, com o uso de hidróxido de tetrametilamónio (TMAH) para remover completamente a bolacha do doador de silício.a parada de gravação ocorre na interface germânio/sílico original.   A camada de interface germânio / silício é então removido por polimento químico e mecânico.Então é escalável para todos os tamanhos de chipsA análise por difração de raios X (XRD) foi utilizada para caracterizar a qualidade das películas finas de germânio, referindo-se ao GOS após o fabrico de chips Gunn, e os resultados são apresentados na Figura 4.A análise XRD mostra que a qualidade cristalina da camada epitaxial de germânio não tem nenhuma mudança óbvia, e sua força máxima e forma de curva são semelhantes às do germânio em wafer de silício.     Gráfico 4. Padrão XRD da camada epitaxial de Geng e GOS germânio.   Resumo   Em resumo, as camadas defeituosas que contenham deslocações desajustadas podem ser expostas por transferência de camadas e removidas por polir químico-mecânico,fornecendo assim uma camada de germânio de alta qualidade no SiNx sob o revestimentoForam realizadas simulações para investigar a viabilidade da plataforma GON, proporcionando um raio de curvatura de canal menor.comprimentos de onda de 8 mmA perda de curvatura num GON com um raio de 5 mm é 0.14600,01 dB/curva e a perda de propagação é de 3.35600,5 dB/cm.Espera-se que estas perdas sejam ainda mais reduzidas através da utilização de processos avançados (como litografia por feixe de elétrons e gravação de íons reativos profundos) ou não estruturando para melhorar a qualidade da parede lateral.        

2024

11/11

Material composto diamante/cobre, quebre o limite!
Material composto diamante/cobre, quebre o limite!   Com a miniaturização contínua, integração e alto desempenho dos dispositivos eletrônicos modernos, incluindo computação, 5G/6G, baterias e eletrônica de potência,A crescente densidade de potência leva a calor severo em joules e altas temperaturas nos canais do dispositivoA eficiência da dissipação de calor está a tornar-se um problema importante nos produtos eletrónicos.A integração de materiais avançados de gestão térmica em dispositivos eletrónicos pode melhorar significativamente as suas capacidades de dissipação de calor.     O diamante possui excelentes propriedades térmicas, a maior condutividade térmica isotrópica de todos os materiais a granel (k= 2300W/mK),e tem um coeficiente de expansão térmica ultra-baixo à temperatura ambiente (CTE=1ppm/K). compósitos de matriz de cobre reforçada com partículas de diamante (diamantes/cobre), como uma nova geração de materiais de gestão térmica,têm recebido grande atenção devido ao seu potencial elevado valor k e CTE ajustável.   No entanto, existem desajustes significativos entre o diamante e o cobre em muitas propriedades, incluindo, mas não limitado a CTE (uma clara diferença de ordem de magnitude,conforme mostrado na figura a) e afinidade química (sem solução sólida), sem reacção química, tal como indicado na figura b).     Diferenças significativas de desempenho entre cobre e diamante (a) coeficiente de expansão térmica (CTE) e (b) diagrama de fase   These mismatches inevitably result in low bond strength and high thermal stress at the diamond/copper interface inherent in the high temperature manufacturing or integration process of diamond/copper compositesComo resultado, os compósitos de diamante/cobre irão inevitavelmente encontrar problemas de fissuração na interface e a condutividade térmica será muito reduzida (quando o diamante e o cobre são directamente combinados, a condutividade térmica será muito reduzida).o seu valor k é muito inferior ao do cobre puro (< 200 W/mK).   Atualmente, o principal método de melhoria consiste na modificação química da interface diamante/diamante através de ligação de metais ou metalização da superfície.A camada de transição formada na interface irá melhorar a força de ligação da interfaceComo mencionado nas referências, para se conseguir a ligação, a camada intermédia relativamente espessa é mais propícia a resistir à fissuração da interface.a espessura da camada intermédia precisa ser de centenas de nanômetros ou mesmo micrômetrosNo entanto, as camadas intermediárias de transição na interface diamante/cobre, tais como os carburos (TiC, ZrC, Cr3C2, etc.), têm uma condutividade térmica intrínseca mais baixa (< 25 W/mK,várias ordens de magnitude menores do que o diamante ou o cobre)Do ponto de vista da melhoria da eficiência de dissipação de calor da interface, é necessário minimizar a espessura do sanduíche de transição,porque de acordo com o modelo da série de resistência térmica, a condutividade térmica da interface (G cobre-diamante) é inversamente proporcional à espessura do sanduíche (d):   A camada intermediária de transição relativamente espessa é propícia a melhorar a força de ligação da interface entre o diamante e a interface,mas a resistência térmica excessiva da camada intermédia não é propícia à transferência de calor da interfacePor conseguinte, a major challenge in integrating diamond and copper is to maintain a high interfacial bonding strength while not introducing excessive interfacial thermal resistance when adopting interfacial modification methods. O estado químico da interface determina a força de ligação entre materiais heterogêneos.As ligações químicas são muito maiores do que as forças de van der Waals ou as ligações de hidrogênioPor outro lado, o desajuste de expansão térmica entre os dois lados da interface (onde T refere-se à CTE e à temperatura,A resistência de ligação das interfaces dos compósitos de diamante/cobre é um outro fator chave na determinação da resistência de ligação das interfaces dos compósitos de diamante/cobre.Como se mostra na figura (a), o coeficiente de expansão térmica do diamante e do cobre é claramente diferente em ordem de magnitude.   Em geral, os desajustes de expansão térmica têm sido um fator chave que afeta o desempenho de muitos compósitos, uma vez que a densidade de deslocamentos em torno dos preenchimentos aumenta significativamente durante o resfriamento,especialmente em compósitos de matriz metálica reforçados com enchimentos não metálicosO estudo inclui os compostos AlN/Al, os compostos TiB2/Mg, os compostos SiC/Al e os compostos diamante/cobre.o composto diamante/cobre é preparado a uma temperatura mais elevada, geralmente superior a 900 °C nos processos tradicionais. A desajuste de expansão térmica óbvia é fácil de gerar tensão térmica no estado de tração da interface diamante/cobre,resultando em uma queda acentuada na adesão da interface e até mesmo falha da interface. Em outras palavras, o estado químico da interface determina o potencial teórico da força da ligação da interface,e o desajuste térmico determina o grau de diminuição da resistência da ligação interfacial após a preparação a alta temperatura do material compostoPortanto, a força de ligação final da interface é o resultado do jogo entre os dois fatores acima.A maioria dos estudos atuais se concentram em melhorar a resistência de ligação da interface ajustando o estado químico da interfaceNo entanto, a diminuição da resistência da ligação de interface causada por uma grave incompatibilidade térmica não foi suficientemente considerada.   Experimento concreto   Tal como se mostra na figura a), o processo de preparação consiste em três fases principais.Uma camada de Ti ultrafina com uma espessura nominal de 70 nm foi depositada na superfície das partículas de diamante (modelo: HHD90, malha: 60/70, Henan Huanghe Cyclone Co., LTD., China) a 500°C pelo método de deposição por pulverização por magnetron RF. A placa de titânio de alta pureza (pureza: 99.99%) é utilizado como alvo de titânio (material de origem)O revestimento de titânio é controlado através do controlo do tempo de deposição.A tecnologia de rotação do substrato é utilizada para expor todas as faces das partículas de diamante à atmosfera de pulverização., e o elemento Ti é uniformemente depositado em todos os planos superficiais das partículas de diamante (incluindo principalmente duas facetas: (001) e (111)).10 wt% de álcool é adicionado no processo de mistura úmida para fazer as partículas de diamante uniformemente distribuídas na matriz de cobre. Pó de cobre puro (pureza: 99,85wt%, tamanho de partícula: 5 ~ 20μm, China Zhongnuo Advanced Material Technology Co., LTD.) e partículas de diamante de cristal único de alta qualidade são utilizadas como matriz (55vol%) e reforço (45vol%)Finalmente, o álcool do composto pré-presso é removido com um vácuo elevado de 10-4 Pa,e, em seguida, o composto de cobre e diamante é densificado por metalurgia em pó (sinterização por plasma de faísca), SPS).     (a) Diagrama esquemático do processo de preparação de compósitos de diamante/cobre; (b) Diferentes processos de sinterização na preparação da metalurgia em pó SPS   No processo de preparação de SPS, propusemos de forma inovadora um processo de sinterização a baixa temperatura e alta pressão (LTHP) e combinámo-lo com a modificação da interface de um revestimento ultrafinho (70 nm).Para reduzir a introdução de resistência térmica do próprio revestimentoPara a comparação, também preparámos os compósitos utilizando o processo tradicional de sinterização a alta temperatura e baixa pressão (HTLP).O processo de sinterização HTLP é uma formulação tradicional que tem sido amplamente utilizada em trabalhos relatados anteriormente para integrar diamante e cobre em compósitos densosEste processo HTLP utiliza tipicamente uma alta temperatura de sinterização de > 900°C (perto do ponto de fusão do cobre) e uma baixa pressão de sinterização de ~ 50MPa.a temperatura de sinterização é de 600°CAo mesmo tempo, substituindo o molde tradicional de grafite por um molde de carburo cimentado, a pressão de sinterização pode ser aumentada consideravelmente para 300MPa.O tempo de sinterização dos dois processos acima é de 10 minutosNos materiais complementares, fizemos uma explicação complementar sobre a otimização dos parâmetros de processo LTHP.Os parâmetros experimentais pormenorizados para diferentes processos (LTHP e HTLP) são apresentados na figura b) acima..   Conclusão   A pesquisa acima visa superar estes desafios e elucidar os mecanismos para melhorar o desempenho de transferência de calor dos compósitos de diamante/cobre.   1Uma nova estratégia integrada foi desenvolvida para combinar a modificação de interfaces ultrafinas com o processo de sinterização LTHP.O composto diamante/cobre obtido atinge um valor k elevado de 763 W/mK e um valor CTE inferior a 10 ppm/KAo mesmo tempo, um valor k mais elevado pode ser obtido a uma fracção de volume de diamante mais baixa (45%, em comparação com 50%-70% nos processos tradicionais de metalurgia em pó),o que significa que os custos podem ser significativamente reduzidos através da redução do teor de enchimentos de diamantes.   2Através da estratégia proposta, a estrutura de interface fina é caracterizada como uma estrutura em camadas de diamante /TiC/CuTi2/Cu, que reduz muito a espessura da camada de transição para ~ 100nm,muito menos do que as centenas de nanômetros ou mesmo alguns micrômetros usados anteriormenteNo entanto, devido à redução dos danos causados pelo esforço térmico durante o processo de preparação, a resistência da ligação interfacial ainda é melhorada para o nível da ligação covalente,e a energia da ligação interfacial é 3.661J/m2. 3Devido à sua espessura ultra fina, a sandwich de transição de interface diamante/cobre cuidadosamente feita tem baixa resistência térmica.Os resultados da simulação MD e Ab-initio mostram que a interface diamante/carbono de titânio tem uma boa correspondência de propriedades fonônicas e uma excelente capacidade de transferência de calor (G> 800MW/m2K)Por conseguinte, os dois possíveis gargalos de transferência de calor não são mais os factores limitantes na interface diamante/cobre.   4A força da ligação de interface é efetivamente melhorada para o nível da ligação covalente.O resultado é um excelente equilíbrio entre os dois factores-chaveA análise mostra que a melhoria simultânea destes dois factores-chave é a razão da excelente condutividade térmica dos compósitos diamante/cobre.    

2024

11/11

Órgão Miller RM 56-02 de safira cristal Tourbillon
Órgão Miller RM 56-02 de safira cristal Tourbillon   Luz e transparência são as duas principais tendências da tecnologia moderna, e parece que o design clássico simples é muito melhor do que confuso e complicado.É também a tendência de desenvolvimento da indústria relojoeira para fazer relógios que atendem à estética do público e não têm escassez de estilo de marcaO peso do próprio material de processo e o duplo teste do desenho criaram uma barreira para a marca.e o pioneiro da relojoaria Miller criou este relógio ultra fino e transparente de cristal de safira tourbillon com seu processo de relojoaria de ponta e design relojoeiro inovador.     O peso do relógio é reduzido pela placa base feita de cristal de safira, o movimento RM é completamente suspenso na caixa de vidro de safira e é fixado por quatro cabos de aço apenas 0.Tamanho 35 mm, o dispositivo na posição de 9 pontos é utilizado para ajustar a aderência do cabo,e o indicador de seta situado abaixo do ponto 12 é utilizado para mostrar se toda a estrutura do cabo está normal para garantir o funcionamento normal do movimentoCada parte do relógio está cheia de cristal de sabedoria artesanal.   A caixa de três camadas do relógio é feita de processo de fresagem de cristais de safira.O cristal de safira é feito de alumina fina em pó, formando cristais., tem uma excelente resistência ao desgaste.   Os painéis superior e inferior da fachada do relógio são tratados com tratamento anti-reflexo, utilizando dois anéis O de borracha nitrílica transparente e montados com 24 parafusos de liga de titânio de grau 5,resistente à água até uma profundidade de 30 metrosFaixa translúcida, toque suave e sedoso, como se a pele fosse um só, bonita e generosa, acrescentando uma bela paisagem entre o pulso.     Herda a tradição artesanal clássica da RM, juntamente com elementos de relógio fixos de cabo modernos e estéticos inovadores, tornando o relógio tourbillon mais atraente.Leve e transparente é a interpretação perfeita do processo de relojoaria inovador da MillerAo contrário do luxo de outros relógios, este relógio está cheio de tecnologia e tecnologia, e também é um dos relógios mais atraentes nos muitos fundos clássicos da marca.RM 56-02 relógio lançado em todo o mundo, como os amigos de relógio podem querer prestar atenção ao seu estilo.        

2024

11/11