Detalhes do produto
Lugar de origem: China
Marca: zmsh
Termos de pagamento e envio
orientação: |
C Plano (0001) para A ((11-20) 1° off |
Matarial: |
99.999% Cristal de safira |
TTV: |
<15um> |
Incline-se.: |
<50um> |
Polido: |
dsp ou ssp |
Diâmetro: |
Personalizado |
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C Plano (0001) para A ((11-20) 1° off |
Matarial: |
99.999% Cristal de safira |
TTV: |
<15um> |
Incline-se.: |
<50um> |
Polido: |
dsp ou ssp |
Diâmetro: |
Personalizado |
Orifício de safira C-Plano para A 1° Off, 99,999% Al2O₃, Diâmetro 2"/3"/4"/6"/8", Espessura personalizada
Isto...Wafer de safira de alta precisãoCaracterísticasPlano C para eixo A 1° de orientação fora do cortee99Pureza de 0,999% (5N), otimizado para crescimento epitaxial superior em aplicações optoeletrônicas e semicondutores avançadas.Diâmetros normalizados (2" a 8")Com espessuras personalizáveis, proporciona uma uniformidade cristalográfica excepcional, uma densidade de defeito ultra-baixa e uma excelente estabilidade térmica/química.O ângulo de corte controlado de 1 ° aumenta a epitaxia de GaN e AlN reduzindo os defeitos de aglomeração de passo, tornando-o ideal para LEDs de alto desempenho, diodos laser, eletrônicos de potência e dispositivos de RF.
Características fundamentais da bolacha de safira
Orientação de precisão fora do corte
Plano C para o eixo A 1° ± 0,1° fora do corte, projetado para melhorar a uniformidade do filme epitaxial e minimizar defeitos em dispositivos baseados em GaN.
Ultra-alta pureza (5N Al)2O3)
99.999% de purezacom traços de impurezas (Fe, Ti, Si) < 5 ppm, garantindo um desempenho elétrico e óptico óptimo.
Diâmetros: 2", 3", 4", 6", 8" (tolerância ± 0,1 mm).
Espessura: 100 μm a 1.500 μm (tolerância ± 5 μm), adaptados a aplicações específicas.
Polido preparado para epi: Ra < 0,5 nm (lado da frente) para deposição de película fina sem defeitos.
Estabilidade térmica: Ponto de fusão ~ 2,050°C, adequado para processos a altas temperaturas (MOCVD, MBE).
Transparência óptica: > 85% de transmissão (UV a infravermelho médio: 250 nm ∼ 5.000 nm).
Robustez mecânica: 9 Dureza de Mohs, resistente à gravação química e à abrasão.
Aplicações da bolacha de safira
Optoeletrónica
Diodos LED/Laser à base de GaN: LEDs azul/UV, micro-LEDs e VCSELs.
Vidros a laser de alta potência: CO2 e componentes de laser excimer.
Eletrônica de potência e RF
Transistores de alta mobilidade eletrônica (HEMT): amplificadores de potência 5G/6G e sistemas de radar.
Diodos Schottky e MOSFETs: Dispositivos de alta tensão para veículos eléctricos.
Indústria e Defesa
Vidros infravermelhos e cúpulas para mísseis: Alta transparência em ambientes adversos.
Sensores de safira: Coberturas resistentes à corrosão para controlo industrial.
Tecnologias Quânticas e de Investigação
Substratos para qubits supercondutores(computação quântica).
Cristais SPDC (conversão paramétrica espontânea para baixo)para a óptica quântica.
Semicondutores e MEMS
Orifícios de SOI (Silicon-on-Isolator)para ICs avançadas.
Sensores de pressão MEMSRequer inércia química.
Especificações
Parâmetro |
Valor |
---|---|
Diâmetro | 2", 3", 4", 6", 8" (± 0,1 mm) |
Espessura | Custo (100 ‰ 1500 μm ± 5 μm) |
Orientação | C-plano para A 1° ± 0,1° de desvio |
Purificação | 990,999% (5N Al2O3) |
Roughness da superfície (Ra) | < 0,5 nm (pronto para epi) |
Densidade de dislocação | < 500 cm2 |
TTV (variação da espessura total) | < 10 μm |
Arco/coroa | < 15 μm |
Transparência óptica | 250 ‰ 5000 nm (> 85%) |
Perguntas e respostas
Q1: Posso solicitar um ângulo de corte diferente (por exemplo, 0,5° ou 2°)?
A2: - Sim, sim, sim.Os ângulos de corte desviados personalizados (0,2° ∼5°) estão disponíveis com tolerância de ±0,1°.
Q2: Qual é a espessura máxima disponível?
A6:Até1,500 μm (1,5 mm)para estabilidade mecânica em aplicações de alto esforço.
P3: Como devem ser armazenadas as bolachas para evitar a contaminação?
A10:ArmazenamentoCassetes compatíveis com os requisitos da sala limpaou gabinetes de nitrogénio (20°C a 25°C, humidade < 40%).