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Wafer de safira C-Plano para A 1° off 99,999% Al2O3 Dia 2"3"4"6"8" Personalizar espessura

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: zmsh

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3'' safira Wafer Al2O3

,

Wafer de safira Al2O3

orientação:
C Plano (0001) para A ((11-20) 1° off
Matarial:
99.999% Cristal de safira
TTV:
<15um>
Incline-se.:
<50um>
Polido:
dsp ou ssp
Diâmetro:
Personalizado
orientação:
C Plano (0001) para A ((11-20) 1° off
Matarial:
99.999% Cristal de safira
TTV:
<15um>
Incline-se.:
<50um>
Polido:
dsp ou ssp
Diâmetro:
Personalizado
Wafer de safira C-Plano para A 1° off 99,999% Al2O3 Dia 2"3"4"6"8" Personalizar espessura

Orifício de safira C-Plano para A 1° Off, 99,999% Al2O₃, Diâmetro 2"/3"/4"/6"/8", Espessura personalizada

 

Isto...Wafer de safira de alta precisãoCaracterísticasPlano C para eixo A 1° de orientação fora do cortee99Pureza de 0,999% (5N), otimizado para crescimento epitaxial superior em aplicações optoeletrônicas e semicondutores avançadas.Diâmetros normalizados (2" a 8")Com espessuras personalizáveis, proporciona uma uniformidade cristalográfica excepcional, uma densidade de defeito ultra-baixa e uma excelente estabilidade térmica/química.O ângulo de corte controlado de 1 ° aumenta a epitaxia de GaN e AlN reduzindo os defeitos de aglomeração de passo, tornando-o ideal para LEDs de alto desempenho, diodos laser, eletrônicos de potência e dispositivos de RF.

 


 

Características fundamentais da bolacha de safira

 

Orientação de precisão fora do corte

Plano C para o eixo A 1° ± 0,1° fora do corte, projetado para melhorar a uniformidade do filme epitaxial e minimizar defeitos em dispositivos baseados em GaN.

 

Ultra-alta pureza (5N Al)2O3)

99.999% de purezacom traços de impurezas (Fe, Ti, Si) < 5 ppm, garantindo um desempenho elétrico e óptico óptimo.

 

Diâmetros: 2", 3", 4", 6", 8" (tolerância ± 0,1 mm).

Espessura: 100 μm a 1.500 μm (tolerância ± 5 μm), adaptados a aplicações específicas.

 

Polido preparado para epi: Ra < 0,5 nm (lado da frente) para deposição de película fina sem defeitos.

 

Estabilidade térmica: Ponto de fusão ~ 2,050°C, adequado para processos a altas temperaturas (MOCVD, MBE).

 

Transparência óptica: > 85% de transmissão (UV a infravermelho médio: 250 nm ∼ 5.000 nm).

 

Robustez mecânica: 9 Dureza de Mohs, resistente à gravação química e à abrasão.

 

Wafer de safira C-Plano para A 1° off 99,999% Al2O3 Dia 2"3"4"6"8" Personalizar espessura 0

 


 

 

Aplicações da bolacha de safira

 

Optoeletrónica

Diodos LED/Laser à base de GaN: LEDs azul/UV, micro-LEDs e VCSELs.

Vidros a laser de alta potência: CO2 e componentes de laser excimer.

 

Eletrônica de potência e RF

Transistores de alta mobilidade eletrônica (HEMT): amplificadores de potência 5G/6G e sistemas de radar.

Diodos Schottky e MOSFETs: Dispositivos de alta tensão para veículos eléctricos.

 

Indústria e Defesa

Vidros infravermelhos e cúpulas para mísseis: Alta transparência em ambientes adversos.

Sensores de safira: Coberturas resistentes à corrosão para controlo industrial.

 

Tecnologias Quânticas e de Investigação

Substratos para qubits supercondutores(computação quântica).

Cristais SPDC (conversão paramétrica espontânea para baixo)para a óptica quântica.

 

Semicondutores e MEMS

Orifícios de SOI (Silicon-on-Isolator)para ICs avançadas.

Sensores de pressão MEMSRequer inércia química.

 

Wafer de safira C-Plano para A 1° off 99,999% Al2O3 Dia 2"3"4"6"8" Personalizar espessura 1Wafer de safira C-Plano para A 1° off 99,999% Al2O3 Dia 2"3"4"6"8" Personalizar espessura 2

 


 

Especificações

 

Parâmetro

Valor

Diâmetro 2", 3", 4", 6", 8" (± 0,1 mm)
Espessura Custo (100 ‰ 1500 μm ± 5 μm)
Orientação C-plano para A 1° ± 0,1° de desvio
Purificação 990,999% (5N Al2O3)
Roughness da superfície (Ra) < 0,5 nm (pronto para epi)
Densidade de dislocação < 500 cm2
TTV (variação da espessura total) < 10 μm
Arco/coroa < 15 μm
Transparência óptica 250 ‰ 5000 nm (> 85%)

 


 

Perguntas e respostas

 

Q1: Posso solicitar um ângulo de corte diferente (por exemplo, 0,5° ou 2°)?
A2: - Sim, sim, sim.Os ângulos de corte desviados personalizados (0,2° ∼5°) estão disponíveis com tolerância de ±0,1°.

 

Q2: Qual é a espessura máxima disponível?
A6:Até1,500 μm (1,5 mm)para estabilidade mecânica em aplicações de alto esforço.

 

P3: Como devem ser armazenadas as bolachas para evitar a contaminação?
A10:ArmazenamentoCassetes compatíveis com os requisitos da sala limpaou gabinetes de nitrogénio (20°C a 25°C, humidade < 40%).