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Wafer de sementes de carburo de silício tipo 4H Dia 157±0,5 mm espessura 500±50um área de monocristal > 153 mm

Detalhes do produto

Marca: ZMSH

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4H Wafer de sementes de carburo de silício

,

Wafer de sementes de carburo de silício

Polytype:
4H
Erro de orientação da superfície:
4° em direcção a < 11-20> ± 0,5o
Diâmetro:
157±0,5 mm
Espessura:
500±50μm
Oficinas de transporte de mercadorias:
18 ± 2,0 mm
2o piso:
8 ± 2,0 mm
Polytype:
4H
Erro de orientação da superfície:
4° em direcção a < 11-20> ± 0,5o
Diâmetro:
157±0,5 mm
Espessura:
500±50μm
Oficinas de transporte de mercadorias:
18 ± 2,0 mm
2o piso:
8 ± 2,0 mm
Wafer de sementes de carburo de silício tipo 4H Dia 157±0,5 mm espessura 500±50um área de monocristal > 153 mm

Wafer de sementes de carburo de silício tipo 4H Dia 157±0,5 mm espessura 500±50um área de monocristal > 153 mm

Resumo da 4H Silicon Carbide Seed

No campo do crescimento de cristais de carburo de silício (SiC), as bolhas de sementes de SiC de nível de produção são essenciais para a criação de cristais de alto desempenho.Estas wafers atuam como o material de partida para o crescimento de SiC de cristal único, utilizadas em dispositivos eletrónicos de alta temperatura e alta potência.e níveis de defeito para apoiar o crescimento de cristais de SiC com defeito minimizadoO uso de wafers de sementes garante estruturas cristalinas consistentes e é crucial em dispositivos de semicondutores de potência como diodos e transistores.As bolinhas de sementes de alta qualidade contribuem para a eficiência e durabilidade dos componentes de SiC em várias indústrias.


Foto da 4H Silicon Carbide Seed

Wafer de sementes de carburo de silício tipo 4H Dia 157±0,5 mm espessura 500±50um área de monocristal > 153 mm 0Wafer de sementes de carburo de silício tipo 4H Dia 157±0,5 mm espessura 500±50um área de monocristal > 153 mm 1


Propriedades da semente de carburo de silício 4H

Wafer de sementes de carburo de silício tipo 4H Dia 157±0,5 mm espessura 500±50um área de monocristal > 153 mm 2

As bolinhas de sementes de SiC são especificamente concebidas para suportar as altas temperaturas necessárias para o crescimento de cristais de SiC.

A produção de sementes de sementes, como o transporte físico de vapor (PVT), depende de temperaturas superiores a 2000°C e a bolacha de sementes deve permanecer estável nestas condições extremas.As placas de produção são projetadas para ter uma estabilidade térmica excepcionalEsta resistência à temperatura é crucial para crescer grandes,Cristais de SiC livres de defeitos que são utilizados em aplicações de alta potência e alta temperaturaOs wafers otimizados para crescimento em altas temperaturas ajudam a reduzir defeitos como deslocamentos e micropipes,assegurando um rendimento mais elevado do material SiC utilizável.


Aplicações da 4H Silicon Carbide Seed

  1. Eletrónica de potência
    As bolinhas de sementes de 4H-SiC são amplamente usadas para o cultivo de cristais de SiC para eletrônicos de potência de alto desempenho.oferecer uma elevada eficiência energética, baixas perdas de comutação e capacidade de operar a altas tensões e temperaturas.Sistemas de energia renovável (como inversores solares e turbinas eólicas)Os componentes à base de 4H-SiC melhoram a eficiência energética e a durabilidade, tornando-os muito procurados nos sistemas de energia modernos.

  1. Ambientes de altas temperaturas e adversidades
    O 4H-SiC® é perfeito para dispositivos que operam em ambientes extremos.Exploração de petróleo e gásOs semicondutores baseados em 4H-SiC são utilizados em equipamentos militares, porque podem resistir a altas temperaturas, radiação e exposição química severa, mantendo um desempenho estável.Acionadores, e outros dispositivos eletrônicos nessas indústrias muitas vezes dependem de componentes 4H-SiC para operações confiáveis.

  1. Dispositivos de alta frequência e RF
    As bolinhas de sementes de 4H-SiC são usadas na fabricação de dispositivos de alta frequência e RF (radiofrequência).O 4H-SiC é preferido para sistemas de comunicação de alta frequênciaOs dispositivos construídos com 4H-SiC oferecem elevada eficiência e menor consumo de energia, tornando-os essenciais nas infra-estruturas de telecomunicações, aeroespacial,e indústrias de defesa onde o desempenho e a confiabilidade são críticos.

  1. LEDs e optoeletrónica
    O 4H-SiC serve como um substrato para o crescimento de cristais de nitreto de gálio (GaN), que são usados em LEDs azuis e ultravioleta (UV) e diodos laser.Estes dispositivos são essenciais em aplicações como iluminação de estado sólidoA alta condutividade térmica e resistência mecânica do 4H-SiC fornecem uma plataforma estável para dispositivos GaN, melhorando sua eficiência e vida útil.


Especificações

Wafer de sementes de carburo de silício tipo 4H Dia 157±0,5 mm espessura 500±50um área de monocristal > 153 mm 3