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6H-P Substrato de carburo de silício SiC 6 polegadas SIC Wafer 4H-P Para dispositivos optoeletrônicos

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: ZMSH

Número do modelo: Substrato SiC

Termos de pagamento e envio

Tempo de entrega: 4-6 semanas

Termos de pagamento: T/T

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Destacar:

Substrato de carburo de silício de 6 polegadas

,

Substrato de carburo de silício SiC 6H-P

,

Substrato de carburo de silício 4H-P SiC

Materiais:
monocristal SiC
Tipo:
4H-P / 6H-P
Tamanho:
4 polegadas
Grau:
Prime/ Dummy
personalizado:
Apoio
Cor:
Negro
Materiais:
monocristal SiC
Tipo:
4H-P / 6H-P
Tamanho:
4 polegadas
Grau:
Prime/ Dummy
personalizado:
Apoio
Cor:
Negro
6H-P Substrato de carburo de silício SiC 6 polegadas SIC Wafer 4H-P Para dispositivos optoeletrônicos

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Sobre o substrato SiC de tipo P

- apoiar as personalizadas com desenhos gráficos

- um cristal hexagonal (4H SiC), obtido a partir de monocristal SiC

- alta dureza, dureza de Mohs chega a 9.2, só atrás do diamante.

- excelente condutividade térmica, adequada para ambientes de alta temperatura.

- características de banda larga, adequadas para dispositivos electrónicos de alta frequência e de alta potência.


Descrição do substrato SiC do tipo P

6H-P SiC (carburo de silício policristalino hexagonal) é um material semicondutor importante, que é amplamente utilizado em alta temperatura,Dispositivos eletrónicos de alta frequência e alta potência devido à sua excelente estabilidade térmica e propriedades eléctricasA sua estrutura cristalina hexagonal única permite ao 6H-P SiC manter uma boa condutividade e resistência mecânica em condições extremas.uma tensão de ruptura elevada e uma excelente condutividade térmica, pelo que apresenta um grande potencial de aplicação em dispositivos electrónicos de potência, células solares e LEDs.

Em comparação com o SiC de tipo N, o SiC 6H-P apresenta diferenças óbvias no tipo de dopagem e no mecanismo de condutividade.O SiC do tipo N aumenta sua condutividade adicionando doadores de elétrons (como nitrogênio ou fósforo) para aumentar a concentração do portadorEm contrapartida, o tipo de transportador e a concentração do 6H-P SiC dependem da selecção e distribuição dos seus elementos dopantes.o que o faz funcionar bem em aplicações de alta frequência, enquanto o 6H-P SiC pode manter a estabilidade em ambientes de alta temperatura e alta potência devido às suas características estruturais,que o tornam adequado para aplicações como eletrónica de potência e sensores de alta temperatura.

O processo de produção de 6H-P SiC é relativamente maduro, e é principalmente preparado por deposição química de vapor (CVD) e crescimento de fusão.Devido à sua excelente resistência mecânica e resistência à corrosão, o 6H-P SiC é considerado uma escolha ideal para substituir os materiais tradicionais de silício, especialmente para aplicações em ambientes adversos.

Com a crescente procura por dispositivos de alta eficiência, a investigação e desenvolvimento do 6H-P SiC avançam constantemente e espera-se que desempenhe um papel mais importante nos veículos de novas energias, nas redes inteligentes,Os dois têm as suas próprias vantagens e a escolha deve ser considerada de forma abrangente em função das exigências específicas da aplicação.


Detalhes do substrato SiC do tipo P

Propriedade

Tipo P 4H-SiC, cristal único Tipo P 6H-SiC, cristal único
Parâmetros da malha a=3,082 Å c=10,092 Å

a=3,09 Å

c=15,084 Å

Sequência de empilhamento ABCB ACBABC
Dureza de Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densidade 30,23 g/cm3 30,0 g/cm3
Coeficiente de expansão térmica 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)
Índice de refração @750nm no = 2.621 ne = 2.671 não=2.612 ne=2.651
Constante dielétrica c~9.66 c~9.66

Conductividade térmica

3 a 5 W/cm·K@298K

3 a 5 W/cm·K@298K

Falta de frequência 3.26 eV 30,02 eV
Campo elétrico de ruptura 2-5×106V/cm 2-5×106V/cm

Velocidade da deriva de saturação

2.0×105m/s 2.0×105m/s


amostras de substrato SiC de tipo P

6H-P Substrato de carburo de silício SiC 6 polegadas SIC Wafer 4H-P Para dispositivos optoeletrônicos 06H-P Substrato de carburo de silício SiC 6 polegadas SIC Wafer 4H-P Para dispositivos optoeletrônicos 1

6H-P Substrato de carburo de silício SiC 6 polegadas SIC Wafer 4H-P Para dispositivos optoeletrônicos 2


Sobre nós
A nossa empresa, ZMSH, é especializada na investigação, produção, processamento e venda de substratos de semicondutores e materiais de cristal óptico.
Temos uma equipa de engenheiros experientes, conhecimentos de gestão, equipamento de processamento de precisão e instrumentos de teste,fornecendo-nos capacidades extremamente fortes no processamento de produtos não-padrão.
Podemos pesquisar, desenvolver e projetar vários novos produtos de acordo com as necessidades do cliente.
A empresa aderirá ao princípio de "centrada no cliente, baseada na qualidade" e se esforçará para se tornar uma empresa de alta tecnologia de primeira linha no campo dos materiais optoeletrônicos.

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Perguntas frequentes

1P: Em comparação com o N-Type, o que dizer do P-Type?

R: Os substratos P-Type 4H-SiC, dopados com elementos trivalentes como o alumínio, têm furos como portadores majoritários, proporcionando boa condutividade e estabilidade a altas temperaturas.Substratos do tipo N, dopados com elementos pentavalentes como o fósforo, têm elétrons como portadores majoritários, o que normalmente resulta em maior mobilidade eletrônica e menor resistividade.

2Q: Quais são as perspectivas de mercado para o P-Type SiC?
R: As perspectivas de mercado para o SiC do tipo P são altamente positivas, impulsionadas pela crescente procura de componentes eletrónicos de potência de alto desempenho para veículos eléctricos, sistemas de energia renovável,e aplicações industriais avançadas.

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