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4H-P Substrato de carburo de silício SiC Wafer SIC de 4 polegadas 6H-P para deposição de nitritos III-V

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: ZMSH

Número do modelo: Substrato SiC

Termos de pagamento e envio

Tempo de entrega: 4-6 semanas

Termos de pagamento: T/T

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Destacar:

Substrato de carburo de silício de 4 polegadas

,

4H-P

Materiais:
monocristal SiC
Tipo:
4H-P / 6H-P
Tamanho:
4 polegadas
Grau:
Prime/ Dummy
personalizado:
Apoio
Cor:
Negro
Materiais:
monocristal SiC
Tipo:
4H-P / 6H-P
Tamanho:
4 polegadas
Grau:
Prime/ Dummy
personalizado:
Apoio
Cor:
Negro
4H-P Substrato de carburo de silício SiC Wafer SIC de 4 polegadas 6H-P para deposição de nitritos III-V

Substrato de SiC, Substrato de Carbono de Silício, Substrato de Carbono de Silício em bruto, Substrato de Carbono de Silício em bruto, Grau Prime, Grau Dummy, Substrato de SiC 4H-P, Substrato de SiC 6H-P, 3C-N SiC 2 polegadas SiC, 4 polegadas SiC, 6 polegadas SiC,8 polegadas de SiC, 12 polegadas SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, tipo HPSI


Sobre o substrato SiC de tipo P

- apoiar as personalizadas com desenhos gráficos

- um cristal hexagonal (4H SiC), obtido a partir de monocristal SiC

- alta dureza, dureza de Mohs chega a 9.2, só atrás do diamante.

- excelente condutividade térmica, adequada para ambientes de alta temperatura.

- características de banda larga, adequadas para dispositivos electrónicos de alta frequência e de alta potência.


Descrição do substrato SiC do tipo P

O substrato SiC do tipo P é um material semicondutor importante amplamente utilizado em dispositivos eletrônicos de alta potência e alta frequência.O substrato SiC do tipo P apresenta características do tipo P, o que permite ao material proporcionar uma boa condutividade elétrica e uma elevada concentração de portadores.A sua excelente condutividade térmica e a sua elevada tensão de ruptura permitem-lhe manter um desempenho estável em condições extremas.


O substrato SiC de tipo P possui excelente estabilidade a altas temperaturas e resistência à radiação e pode funcionar normalmente em ambientes de alta temperatura.Os substratos de 4H-SiC apresentam menores perdas de energia sob campos elétricos elevados e são adequados para utilização em veículos elétricosAlém disso, a excelente condutividade térmica ajuda a melhorar a eficiência de dissipação de calor do dispositivo e prolongar a sua vida útil.


Os substratos de SiC de tipo P são amplamente utilizados em dispositivos de energia, dispositivos de RF e dispositivos optoeletrônicos.

Eles são frequentemente usados para fabricar dispositivos como MOSFETs e IGBTs de tipo P para atender às necessidades de alta voltagem, alta temperatura e alta frequência.Os substratos de SiC do tipo 4H-P desempenharão um papel cada vez mais importante na futura electrónica de potência e redes inteligentes.


Detalhes do substrato SiC do tipo P

Propriedade

Tipo P 4H-SiC, cristal único Tipo P 6H-SiC, cristal único
Parâmetros da malha a=3,082 Å c=10,092 Å

a=3,09 Å

c=15,084 Å

Sequência de empilhamento ABCB ACBABC
Dureza de Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densidade 30,23 g/cm3 30,0 g/cm3
Coeficiente de expansão térmica 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis) 4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)
Índice de refração @750nm no = 2.621 ne = 2.671 não=2.612 ne=2.651
Constante dielétrica c~9.66 c~9.66

Conductividade térmica

3 a 5 W/cm·K@298K

3 a 5 W/cm·K@298K

Falta de frequência 3.26 eV 30,02 eV
Campo elétrico de ruptura 2-5×106V/cm 2-5×106V/cm

Velocidade da deriva de saturação

2.0×105m/s 2.0×105m/s


amostras de substrato SiC de tipo P

4H-P Substrato de carburo de silício SiC Wafer SIC de 4 polegadas 6H-P para deposição de nitritos III-V 04H-P Substrato de carburo de silício SiC Wafer SIC de 4 polegadas 6H-P para deposição de nitritos III-V 1

4H-P Substrato de carburo de silício SiC Wafer SIC de 4 polegadas 6H-P para deposição de nitritos III-V 2


Sobre nós
A nossa empresa, ZMSH, é especializada na investigação, produção, processamento e venda de substratos de semicondutores e materiais de cristal óptico.
Temos uma equipa de engenheiros experientes, conhecimentos de gestão, equipamento de processamento de precisão e instrumentos de teste,fornecendo-nos capacidades extremamente fortes no processamento de produtos não-padrão.
Podemos pesquisar, desenvolver e projetar vários novos produtos de acordo com as necessidades do cliente.
A empresa aderirá ao princípio de "centrada no cliente, baseada na qualidade" e se esforçará para se tornar uma empresa de alta tecnologia de primeira linha no campo dos materiais optoeletrônicos.

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Perguntas frequentes

1P: Em comparação com o N-Type, o que dizer do P-Type?

R: Os substratos P-Type 4H-SiC, dopados com elementos trivalentes como o alumínio, têm furos como portadores majoritários, proporcionando boa condutividade e estabilidade a altas temperaturas.Substratos do tipo N, dopados com elementos pentavalentes como o fósforo, têm elétrons como portadores majoritários, o que normalmente resulta em maior mobilidade eletrônica e menor resistividade.

2Q: Quais são as perspectivas de mercado para o P-Type SiC?
R: As perspectivas de mercado para o SiC do tipo P são altamente positivas, impulsionadas pela crescente procura de componentes eletrónicos de potência de alto desempenho para veículos eléctricos, sistemas de energia renovável,e aplicações industriais avançadas.

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