logo
PRODUTOS
PRODUTOS
Casa > PRODUTOS > Sic carcaça > 4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer

4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: ZMSH

Número do modelo: Substrato SiC

Termos de pagamento e envio

Tempo de entrega: 2 a 4 semanas

Termos de pagamento: T/T

Obtenha o melhor preço
Destacar:

Substrato de SiC de 500um

,

Substrato de SiC de grau P

,

Carcaça de 8 polegadas sic

Materiais:
monocristal SiC
Tipo:
Tipo 4H-N
Espessura:
350um 500um
Densidade:
3.21 G/cm3
Superfície:
CMP de face Si; Face C Mp;
Orientação da bolacha:
Fora do eixo: 4 graus para <1120> +/- 0,5 graus
Materiais:
monocristal SiC
Tipo:
Tipo 4H-N
Espessura:
350um 500um
Densidade:
3.21 G/cm3
Superfície:
CMP de face Si; Face C Mp;
Orientação da bolacha:
Fora do eixo: 4 graus para <1120> +/- 0,5 graus
4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer

Wafer de SiC, Wafer de Carbono de Silício, Substrato de SiC, Substrato de Carbono de Silício, Grau P, Grau D, 2 polegadas de SiC, 4 polegadas de SiC, 6 polegadas de SiC, 8 polegadas de SiC, 12 polegadas de SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, tipo HPSI


Características do 4H-N SiC4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 0

- utilizaçãoSIC Monocristalpara fazer

- apoiar as personalizadas com desenhos gráficos

- alto desempenho, larga distância de banda, elevada mobilidade dos elétrons

- alta dureza, cerca de 9,2 Mohs

- amplamente utilizados em áreas de alta tecnologia, como a electrónica de potência, os LED e os sensores

As bolinhas de carburo de silício (SiC), compostas de silício e carbono, são um material semicondutor crucial utilizado em várias aplicações.

Conhecidas pelas suas propriedades eléctricas e térmicas distintas, as placas de SiC desempenham um papel essencial na indústria dos semicondutores.

São especialmente vantajosas em ambientes de alta temperatura e oferecem vários benefícios em relação às wafers de silício convencionais.

*A ficha de especificações do produto encontra-se abaixo.

Imóveis Grau P Grau D
Forma cristalina 4H-N
Politipo Nenhum Permitido Área ≤ 5%
(MPD) a ≤ 1/cm2 ≤ 5/cm2
Placas hexadecimais Nenhum Permitido Área ≤ 5%
Policristal hexagonal Nenhum Permitido
Inclusões Área ≤ 0,05% N/A
Resistividade 0.015Ω•cm 0.028Ω•cm 0.014Ω•cm 0.028Ω•cm
(EPD) a ≤ 8000/cm2 N/A
(TED) a ≤ 6000/cm2 N/A
(BPD) a ≤ 2000/cm2 N/A
(TDS) a ≤ 1000/cm2 N/A
Falha de empilhamento ≤ 1% Área N/A
Contaminação por metais na superfície (Al, Cr, Fe, Ni, Cu, Zn, Pb, Na, K, Ti, Ca, V, Mn) ≤ 1E11cm-2

Mais informações sobre o 4H-N SiC

A cadeia industrial do carburo de silício (SiC) consiste em várias etapas-chave: preparação do material do substrato, crescimento da camada epitaxial, fabricação de dispositivos e aplicações a jusante.

Os monocristalhos de SiC são tipicamente produzidos utilizando o método de transmissão de vapor físico (PVT).

Esses cristais servem então como substratos para o processo de deposição de vapor químico (CVD), que cria camadas epitaxiais.

Estas camadas são posteriormente utilizadas para fabricar vários dispositivos.

Na indústria dos dispositivos SiC, a maior parte do valor está concentrada na fase de fabrico de substrato a montante, devido à sua complexidade técnica.

A empresa ZMSH oferece wafers de SiC em tamanhos de 2 polegadas, 4 polegadas, 6 polegadas, 8 polegadas e 12 polegadas.

Se você tiver outros requisitos de tamanho, podemos personalizá-los. (por favor, diga-nos os parâmetros específicos)

Devido à sua dureza excepcional (o SiC é o segundo material mais duro do mundo) e estabilidade sob altas temperaturas e tensão,

O SiC é amplamente utilizado em várias indústrias.

Amostragens

4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 1

* Podemos personalizar se tiver mais requisitos.

Sobre nós

Temos uma equipa de engenheiros experientes, conhecimentos de gestão, equipamento de processamento de precisão e instrumentos de teste,fornecendo-nos capacidades extremamente fortes no processamento de produtos não-padrão.

Podemos pesquisar, desenvolver e projetar vários novos produtos de acordo com as necessidades do cliente.

A empresa aderirá ao princípio de "centrada no cliente, baseada na qualidade" e se esforçará para se tornar uma empresa de alta tecnologia de primeira linha no campo dos materiais optoeletrônicos.

* quando fabricamos o SiC

4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 2

Produtos recomendados

1. 2 polegadas Sic Substrato 6H-N Tipo espessura 350um, 650um Sic Wafer

4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 3

2.6 "Silicio de alta pureza 4H-Semi SIC Wafers de semicondutores de grau fictício LED de grau 5G D

4H-N Substrato de carburo de silício SiC 8 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 4

Perguntas frequentes

1P: Como é que o 4H-N SiC se compara ao silício?

R: O 4H-N SiC tem uma distância de banda mais larga, maior condutividade térmica e melhor tensão de quebra em comparação com o silício.

2Q: Qual é a perspectiva futura para a tecnologia 4H-N SiC?

R: As perspectivas futuras para a tecnologia 4H-N SiC são promissoras, com a crescente demanda em eletrônica de potência, energia renovável e sistemas eletrônicos avançados.