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Equipamento de retificação/polimento de dupla face de alta precisão

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August 14, 2025
Palavra-chave: Equipamento do semicondutor
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Etiquetas:
#Forno de crescimento de lingotes de SiC de 4 polegadas #Forno de crescimento de lingotes de SiC de 8 polegadas #Forno de crescimento de lingotes de SiC de 6 polegadas
Descrição do vídeo:
Descubra o Equipamento de Moagem/Lisagem de Alto Precisão de Dois lados, projetado para materiais duramente frágeis como safira, vidro e quartzo.6 μm e rugosidade Ra ≤ 0.4 nm. Ideal para indústrias de semicondutores, optoelectrónica e aeroespacial.
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