Detalhes dos produtos

Casa PRODUTOS

Wafer de Safira: Alta dureza Excelente isolamento elétrico Boa condutividade térmica

Nome da marca:	ZMSH
Número do modelo:	Substratos de safira SSP plano C de 4 polegadas
MOQ:	25
Preço:	Fluctuates with market
Tempo de entrega:	4-9 semanas
Condições de pagamento:	T/T

Informações pormenorizadas

Descrição do produto

Informações pormenorizadas

Lugar de origem:

China

Orientação de cristal:

Plano C / A / R / M

Diâmetro:

2/4/6 polegadas

Grossura:

650±15um

Método do crescimento de cristal:

KY/EFG/CZ

Superfície:

Polido ou conforme aplicação

Tipo de polimento:

SSP / DSP

Descrição do produto

Informações sobre Substratos de Safira

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Substratos de safira são materiais fundamentais críticos para LEDs e dispositivos GaN. Embora seu próprio tamanho de mercado (aproximadamente US$ 833 milhões globalmente até 2031) seja relativamente limitado, ele sustenta aplicações downstream de trilhões de dólares, com significado estratégico e pioneiro. Wafer de Safira: Alta dureza Excelente isolamento elétrico Boa condutividade térmica

Upstream: Alumina de alta pureza (principalmente 4N5 e superior), equipamentos de crescimento de cristais (como fornos Kyropoulos) e campos térmicos de tungstênio-molibdênio. Algumas matérias-primas de ponta e equipamentos centrais ainda dependem parcialmente de importações.

Midstream: Crescimento de cristais de safira → extração do núcleo → fatiamento → lapidação → polimento → substrato de safira padronizado (PSS). Este segmento apresenta as maiores barreiras técnicas e valor agregado.

Downstream: Chips de LED (respondendo por mais de 80% do consumo), eletrônicos de consumo (capas, componentes de câmera), semicondutores de terceira geração (dispositivos de potência/RF GaN), janelas ópticas, etc. As aplicações downstream estão se expandindo de LEDs tradicionais para campos diversificados.

Substratos de safira SSP C-plane de 4 polegadas são wafers de alumina monocristalina (Al₂O₃) com orientação cristalina (0001), produzidos principalmente através dos métodos de crescimento de cristal Kyropoulos (KY), HEM ou EFG. SSP significa Single Side Polished: a superfície frontal pronta para epitaxia passa por polimento de ultra-precisão para atingir rugosidade superficial ultrabaixa, enquanto o lado traseiro permanece finamente retificado.

Principais Características

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Material de Safira Monocristalina de Alta Pureza

Nossos substratos de safira são fabricados a partir de alumina monocristalina sintética de alta pureza (Al₂O₃) comultra-alta pureza 4N5/5N, especialmente projetada para ambientes de fabricação optoeletrônica e de semicondutores de alto padrão. O material apresenta excelente estabilidade térmica, inércia química, resistência à corrosão por plasma e rigidez mecânica excepcional, mantendo desempenho físico e óptico estável sob epitaxia de alta temperatura, processamento a vácuo e condições de processo químico rigorosas.

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Múltiplas Opções de Orientação Cristalina para Dispositivos Diversos

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Substratos de safira estão disponíveis com orientações cristalinas principais para atender a diferentes requisitos de dispositivos semicondutores e optoeletrônicos. Substratos C-plane são otimizados para epitaxia GaN e produção em massa de LEDs; substratos R-plane suportam dispositivos microeletrônicos de RF e de alta velocidade SOS (Silicon-on-Sapphire); opções A-plane e M-plane atendem a dispositivos GaN não polares/semi-polares e componentes de laser especiais. Especificações personalizadas de ângulo fora de eixo estão disponíveis para melhorar a qualidade do crescimento epitaxial e o rendimento do dispositivo.

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Desempenho de Polimento e Planicidade de Ultra-Precisão

Disponívelem graus SSP (Single Side Polished) e DSP (Double Side Polished) para se adequar a diferentes cenários de processo. Superfícies polidas prontas para epitaxia atingem rugosidade superficial ultrabaixa Ra< 0,3 nm, com valores de TTV, BOW e WARP estritamente controlados. A superfície ultra-lisa e livre de defeitos atende perfeitamente aos padrões de crescimento de epitaxia MOCVD, garantindo deposição uniforme de camada GaN e alta consistência do desempenho do chip.

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Excelentes Propriedades Elétricas e Ópticas

Substratos de safira fornecem isolamento elétrico superior e baixa dielétricaelétricaeperda dielétrica, isolando efetivamente a interferência de circuito para dispositivos semicondutores de alta frequência e potência dispositivos. Eles apresentam transmitância espectral ultra-ampla UV-Vis-IR, baixa taxa de desgaseificação e desempenho óptico estável, tornando-os ideais para componentes de janela óptica, embalagens optoeletrônicas de precisão e

ambientes de processo de semicondutores a vácuo. Fabricação Personalizada de Substratos de Precisão

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Diâmetro do wafer: 2/3/4/6/8/12 polegadas

Espessura padrão e personalizada

Orientação cristalina e ângulo fora de eixo preciso
Modos de polimento SSP / DSP
Rugosidade superficial e tolerância de planicidade
Chanfro de borda e acabamento de borda
Padronização funcional da superfície (PSS/NPSS)
Grau de limpeza e processo de limpeza de precisão
Processamento Funcional e Serviços de Valor Agregado Personalizados

Além de substratos de safira nus padrão, fornecemos processamento funcional personalizado de processo completo para suportar aplicações diversificadas de clientes. Os serviços disponíveis incluem:Fabricação de substrato padronizado PSS / NPSS

Metalização completa/de borda/em anel/em moldura/localizada (revestimento Au/Ti/Cr/Ni)

Fatiamento de wafer ultrafino e processamento de alívio de tensão
Corte, perfuração e modelagem de alta precisão
Acabamento de superfície personalizado (polimento/retificação/jateamento)
Inspeção de qualidade rigorosa e certificação COA completa
Soluções de Substratos de Substituição Personalizados e de Grau OEM

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.

Aplicações Típicas

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Epitaxia de LED azul/verde/ultravioleta e fabricação de chips

Produção de dispositivos de exibição de ponta Mini LED / Micro LED

Dispositivos de semicondutores de potência e comunicação RF baseados em GaN
Circuitos integrados de alta frequência SOS (Silicon-on-Sapphire)
Iluminação automotiva, componentes optoeletrônicos montados em veículos
Janelas ópticas AR/VR e componentes ópticos de precisão
Sensores MEMS e portadores de chips microfluídicos
Janelas ópticas de alta precisão e componentes de transmissão infravermelha
Equipamentos de vácuo para semicondutores e peças de isolamento de baixa desgaseificação
Embalagem de dispositivos optoeletrônicos de alta potência e substratos de gerenciamento térmico
Substratos de safira foram produzidos em massa comercialmente para cenários optoeletrônicos e de semicondutores convencionais, apresentando consistência de lote estável, baixa taxa de defeitos e excelente compatibilidade de processo.
Especificações do Produto

Item

Especificação

Produto	Substrato / Wafer de Safira
Material	Safira Sintética / Cristal Único de Al₂O₃
Método de Crescimento	Kyropoulos / Edge-Defined Film-Fed Growth (EFG)
Estrutura Cristalina	Hexagonal (α-Al₂O₃)
Diâmetro	2" / 3" / 4" / 6" / 8" ou Personalizado
Espessura	Personalizada (por exemplo, 430 µm – 1000 µm)
Orientação	c-plane (0001) / a-plane (11-20) / r-plane (1-102) / m-plane (10-10)
Acabamento da Superfície	SSP (Single Side Polished) / DSP (Double Side Polished) / Lapped / Ground
Qualidade da Superfície	Scratch-Dig por MIL-PRF-13830B (por exemplo, 40/20, 20/10)
TTV (Variação Total de Espessura)	≤ 5 µm (ou por requisito do cliente)
Bow / Warp	≤ 10 µm (ou por requisito do cliente)
Rugosidade (Ra)	Polido: ≤ 0,2 nm / Lapidado: ≤ 0,5 µm
Tipo de Borda	Com Flat Primário / Sem Flat (Redondo Completo)
Comprimento do Flat	Personalizado (por padrão SEMI ou desenho do cliente)
Perfil da Borda	Chanfrado / Arredondado conforme necessário
Dopante / Pureza	Alta Pureza (≥ 99,99% Al₂O₃)
Revestimento	Não revestido / Revestimento AR / Revestimento ITO / Revestimento Metálico Disponível
Aplicação	LED / Semicondutor / Óptico / RF e Micro-ondas / Relógio / Eletrônicos de Consumo
Por que Escolher Substratos de Safira para Aplicações em Semicondutores e Optoeletrônicas?	Substratos de safira são materiais fundamentais amplamente aplicados em epitaxia de semicondutores, fabricação de dispositivos optoeletrônicos e sistemas de processamento microeletrônico. Servindo como portador para o crescimento de camadas epitaxiais de GaN, ZnO e outros, eles operam em ambientes de fabricação extremos com alta temperatura, forte erosão por plasma, corrosão química e campos eletromagnéticos de alta frequência.

Comparados com materiais de substrato de silício, quartzo e cerâmica comum tradicionais, substratos de safira monocristalina de alta pureza integram propriedades físicas e químicas abrangentes superiores, tornando-os insubstituíveis para processos de semicondutores e optoeletrônicos de ponta. As principais vantagens incluem:

Estabilidade extrema em alta temperatura

: Com ponto de fusão de até 2050°C, mantém estrutura cristalina estável e precisão dimensional sob processos de epitaxia e recozimento de alta temperatura a longo prazo, evitando efetivamente deformação do substrato e falha do dispositivo.

Rigidez e dureza mecânica ultra-altas: Com dureza Mohs de 9, a segunda apenas ao diamante, oferece excelente resistência ao desgaste e estabilidade estrutural, resistindo a danos mecânicos e empenamento durante corte de precisão, gravação e crescimento de filmes finos.
Inércia química superior: É resistente à corrosão por vários gases de processo ácidos, alcalinos e reativos usados na fabricação de semicondutores, sem reações químicas ou deterioração da superfície, garantindo condições de processo ultra-limpas.
Excelente resistência a plasma e radiação: Resiste a bombardeamento de plasma a longo prazo e radiação ultravioleta em processos de deposição de filmes finos e gravação, com baixa taxa de danos na superfície e desempenho estável.
Propriedades isolantes e dielétricas: Apresentando alta resistividade e baixa perda dielétrica, fornece isolamento elétrico confiável para dispositivos optoeletrônicos de alta frequência e alta potência, reduzindo efetivamente a interferência de sinal.
Alta transmitância óptica: Alcança excelente transmissão de luz nas bandas ultravioleta, visível e infravermelha, adaptando-se perfeitamente à preparação de dispositivos emissores de luz e fotodetectores.
Durabilidade de processo a longo prazo: Mantém planicidade de superfície e qualidade cristalina consistentes em processos de produção de semicondutores repetitivos e rigorosos, reduzindo significativamente a frequência de substituição do substrato e os custos de produção.
Pelas razões acima, os substratos de safira se tornaram o material principal preferido para wafers epitaxiais de LED, dispositivos semicondutores de potência, dispositivos de radiofrequência de micro-ondas e outros componentes semicondutores centrais.Fabricação Personalizada de Substratos de Safira

Somos especializados em fabricação personalizada e padronizada de substratos de safira para equipamentos de semicondutores e optoeletrônicos, focando em soluções personalizadas de alta precisão para produção industrial e P&D de laboratório. Quebramos as limitações de especificações padrão fixas e personalizamos substratos totalmente de acordo com os parâmetros de processo reais dos clientes, requisitos de correspondência de equipamentos e padrões de design de dispositivos.

Opções abrangentes de personalização cobrem parâmetros de substrato de processo completo e estruturas de suporte:

Parâmetros Principais do Substrato de Safira

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Espessura do substrato

Orientação cristalina (C-plane, A-plane, R-plane, M-plane e planos cristalinos especiais personalizados)
Especificações de forma de borda e chanfro
Design de posicionamento de Flat/Notch
Rugosidade e planicidade da superfície
Requisitos de polimento em ambos os lados/um lado
Tratamento de superfície ultra-limpo e processamento de alívio de tensão
Componentes Estruturais Correspondentes

Sim. Apoiamos totalmente o desenvolvimento de protótipos, testes de pequenos lotes em laboratório, substituição de manutenção de equipamentos e pedidos de lotes de produção em massa. Avaliaremos o esquema de produção e a cotação de acordo com os parâmetros personalizados e a dificuldade de processamento.Processamento de orifício e ranhura de posicionamento

Base de correspondência metálica e estrutura de manga
Especificações da interface de montagem e fixação
Montagem integrada de substrato e peças auxiliares
Podemos fornecer componentes integrados acabados montados com substratos de safira e peças metálicas/cerâmicas correspondentes para atender às necessidades de instalação e uso direto dos clientes.
Serviço de Substituição e Engenharia Reversa

Para substratos de safira descontinuados, peças originais de difícil obtenção e substratos personalizados não padronizados para equipamentos de semicondutores especiais, fornecemos serviços profissionais de engenharia reversa e fabricação de substituição. Os clientes podem fornecer as seguintes informações para avaliação e cotação:

Número da peça do equipamento original

Desenhos técnicos detalhados e especificações de parâmetros

Fotos claras do produto e amostras físicas (novas/usadas)
Dados chave de dimensão e parâmetros cristalinos
Modelo do equipamento de suporte e informações de lote
Cenários de aplicação específicos e parâmetros do ambiente de processo
Nossa equipe de engenharia profissional realizará uma avaliação abrangente da estrutura do substrato, desempenho do cristal, dificuldade de processamento e viabilidade de fabricação antes da cotação formal. Todos os substratos de substituição personalizados serão otimizados para compatibilidade de processo. O desempenho de correspondência final será confirmado de acordo com a configuração real do equipamento do cliente e os padrões do processo de produção para garantir zero diferença no efeito de uso.
Controle de Qualidade

Implementamos inspeção de qualidade de precisão de processo completo para todos os substratos de safira, e podemos fornecer itens de inspeção direcionados e relatórios de teste completos de acordo com os requisitos do projeto do cliente e os padrões da indústria. Os principais conteúdos de inspeção incluem:

Inspeção de precisão dimensional completa (diâmetro, espessura, calibração de tolerância)

Detecção de precisão da orientação cristalina

Teste de planicidade da superfície, empenamento e rugosidade
Inspeção visual de defeitos (arranhões, cavidades, rachaduras, inclusões)
Detecção de limpeza e estresse superficial
Inspeção de precisão de montagem e tolerância de correspondência
Inspeção profissional de embalagem anticolisão e à prova de poeira
Relatórios de inspeção formais com dados de teste completos podem ser fornecidos para apoiar a verificação de recebimento de material do cliente e a rastreabilidade da qualidade da produção.
Que Informações Devo Enviar para uma Cotação?

Para garantir uma cotação precisa e encurtar o ciclo de entrega, por favor, forneça as seguintes informações detalhadas ao consultar:

Desenhos técnicos completos do produto e folhas de parâmetros

Diâmetro do substrato, espessura e requisitos de tolerância

Orientação cristalina e padrões de processamento de superfície
Acabamento de superfície, grau de polimento e requisitos de limpeza
Parâmetros de componentes auxiliares correspondentes (se houver)
Marca do equipamento, modelo e condições de processo de suporte
Número da peça OEM original (se disponível)
Quantidade necessária e demanda de lote
Processo de aplicação específico e requisitos de ambiente extremo
Se não houver desenhos técnicos completos disponíveis, por favor, forneça fotos claras de alta definição e
amostras físicas do substrato para que nossa equipe realize testes de parâmetros e avaliação de esquema.
FAQ

Para que são usados principalmente os substratos de safira?

Vocês podem fornecer peças de montagem de substrato integradas personalizadas?

Vocês podem produzir substratos de substituição para equipamentos antigos e especiais?

Todos os parâmetros principais dos substratos de safira podem ser personalizados?

Vocês apoiam pedidos de pequenos lotes e protótipos?

Wafer de Carboneto de Silício Tipo 4H-N de 2 a 12 Polegadas | Aplicação de Substrato de SiC Wafer de Safira: Alta dureza Excelente isolamento elétrico Boa condutividade térmica

Wafer de Safira 2" Dia 50,8mm±0,1mm Espessura 350um C-plane

Wafer de Safira: Alta dureza Excelente isolamento elétrico Boa condutividade térmica

Etiquetas:

Bolacha da safira

Sic carcaça

Safira Windows ótico

Bolacha de silicone de IC

O fio viu a máquina

Safira sintética Rod

Placa de quartzo fundido

Peças da safira

Pedra preciosa sintética

Equipamento do semicondutor

Bolacha LiNbO3

Bolacha do fosforeto de índio

carcaça cerâmica

Envoltório do laboratório

Bolacha do nitreto do gálio

Bolacha do GaAs

Bolacha da safira

Sic carcaça

Safira Windows ótico

Bolacha de silicone de IC

O fio viu a máquina

Safira sintética Rod

Placa de quartzo fundido

Peças da safira

Pedra preciosa sintética

Equipamento do semicondutor

Bolacha LiNbO3

Bolacha do fosforeto de índio

carcaça cerâmica

Envoltório do laboratório

Bolacha do nitreto do gálio

Bolacha do GaAs

Detalhes dos produtos

Wafer de Safira: Alta dureza Excelente isolamento elétrico Boa condutividade térmica

Além de substratos de safira nus padrão, fornecemos processamento funcional personalizado de processo completo para suportar aplicações diversificadas de clientes. Os serviços disponíveis incluem:Fabricação de substrato padronizado PSS / NPSS

Especificação

Opções abrangentes de personalização cobrem parâmetros de substrato de processo completo e estruturas de suporte:

Número da peça do equipamento original

Inspeção de precisão dimensional completa (diâmetro, espessura, calibração de tolerância)

Desenhos técnicos completos do produto e folhas de parâmetros

Para que são usados principalmente os substratos de safira?

vidro feito sob encomenda da safira

carcaça da safira

sistema ótico da safira

Sapphire Tube：Precision Secondary Machining Capability Broad-Spectrum High Transmittance

12 inch Sapphire Wafer：C-plane SSP / DSP Optoelectronic Devices 12 inch Industrial Grade