Substrato de Safira Quadrado Ultra-Grande 310 × 310 × 1 mm para Aplicações em Semicondutores e Aeroespacial

Substrato de Safira Quadrado Ultra-Grande 310 × 310 × 1 mm para Aplicações em Semicondutores e Aeroespaciais

Visão Geral do Produto

O Substrato de Safira Quadrado Ultra-Grande de 310 × 310 × 1 mm representa o limite superior do crescimento atual de cristais de safira sintética e da tecnologia de usinagem de precisão em grandes áreas. Fabricado a partir de óxido de alumínio (Al₂O₃) monocristalino de alta pureza de 99,99%, esta placa de safira oferece planicidade excepcional, estabilidade térmica, resistência química e resistência mecânica em uma área de superfície expansiva.

Ao contrário das pastilhas de safira redondas padrão projetadas para produção direta de semicondutores, este produto é projetado principalmente como um substrato de suporte, placa de base ou painel de safira de grande área. É amplamente utilizado em processamento epitaxial GaN, ambientes de semicondutores de alta temperatura, sistemas ópticos avançados e aplicações aeroespaciais onde a estabilidade dimensional e a durabilidade são críticas.

Principais Aplicações

• Placas de suporte para pastilhas de semicondutores

  • Epitaxia GaN-on-Sapphire (MOCVD)

  • Manuseio de processos de alta temperatura

• Janelas ópticas e visores de grande área

• Janelas de observação aeroespaciais e a vácuo

• Placas de base para sistemas a laser

• Substratos de colagem de precisão

• Plataformas de safira industriais e de pesquisa personalizadas

Especificações Técnicas

Principais Vantagens

Capacidade de Formato Ultra-Grande

Mantém excelente planicidade e uniformidade de espessura na escala de 310 mm, permitindo desempenho confiável em aplicações de grande área.

Durabilidade Mecânica Excepcional

Com uma dureza Mohs de 9, a superfície de safira resiste a arranhões e desgaste durante o manuseio e processamento de alta carga.

Estabilidade Térmica Superior

Projetado para suportar ciclos repetidos de alta temperatura comumente encontrados em MOCVD e outros processos de crescimento epitaxial.

Qualidade da Superfície de Grau Óptico

O polimento dupla face atinge rugosidade superficial sub-nanométrica, tornando a placa ideal para janelas ópticas e aplicações de colagem de alta resistência.

Resistência Química Excepcional

Oferece durabilidade significativamente maior do que quartzo fundido ou vidro em ambientes de processo corrosivos e agressivos.

Fabricação e Controle de Qualidade

• Crescimento de boule de safira em larga escala

• Corte de precisão e processamento de alívio de tensão

• Polimento dupla face (DSP)

• Inspeção de planicidade interferométrica de superfície total

• Inspeção visual e dimensional de 100% antes do envio

FAQ

P1: Este produto é uma pastilha de safira padrão?
Não. Este produto é classificado como um substrato de safira ultra-grande ou placa de suporte, não uma pastilha de semicondutor padrão. Ele é projetado para aplicações de suporte, ópticas ou estruturais.

P2: Você pode fabricar tamanhos maiores que 310 mm?
Nossa capacidade atual para substratos de safira quadrados varia de 250 mm a 310 mm por lado, dependendo da orientação e espessura.

P3: É adequado para crescimento epitaxial GaN?
Sim. Este substrato de safira é amplamente utilizado como placa de suporte para processos epitaxiais GaN-on-Sapphire, especialmente em sistemas MOCVD de alto rendimento.

P4: Como a planicidade é garantida em uma superfície tão grande?
Usamos equipamentos de polimento dupla face de grande formato e verificamos cada placa com interferometria a laser para garantir a planicidade de λ/10 a 633 nm.

P5: Como o substrato é embalado para envio?
Cada placa é embalada em uma embalagem a vácuo personalizada, absorvente de choque e de alta limpeza, projetada para evitar danos durante o transporte internacional.