| Nome da marca: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| Tempo de entrega: | 2-4 semanas |
| Condições de pagamento: | T/T |
A Máquina de Colagem SiC é um sistema de alta precisão projetado para colar bolachas, sementes SiC, papel grafite e placas de grafite. Ela oferece alinhamento central preciso, colagem assistida a vácuo e pressão ajustável, garantindo uma colagem uniforme, estável e livre de bolhas.
Esta máquina é ideal para a fabricação de semicondutores, preparação de sementes SiC, cerâmica de alta temperatura e aplicações de pesquisa ou em escala piloto. Ela oferece um processo confiável e reproduzível para materiais que exigem alta precisão e integridade.
![]()
Alta Precisão de Colagem: O alinhamento preciso garante uma colagem uniforme em toda a superfície.
Colagem Livre de Bolhas: A colagem assistida a vácuo remove o ar aprisionado e evita defeitos.
Pressão Ajustável: Garante compressão uniforme para uma qualidade de colagem consistente.
Compatibilidade de Materiais: Suporta bolachas, sementes SiC, papel grafite e placas de grafite.
Processo Estável e Reproduzível: Ideal para produção em pequena escala ou em escala piloto.
Operação Amigável: Interface simples para fácil controle e monitoramento do processo.
![]()
Mecanismo de Alinhamento Central: Posiciona com precisão bolachas, sementes SiC e placas de grafite.
Colagem Assistida a Vácuo: Elimina bolhas de ar na camada adesiva.
Sistema de Pressão Ajustável: Garante compressão uniforme da interface.
Parâmetros de Processo Programáveis: Temperatura, pressão e tempo de permanência podem ser definidos para materiais específicos.
Registro e Monitoramento de Dados: Registra os parâmetros do processo para garantia de qualidade.
Design Compacto e Modular: Fácil de integrar em fluxos de trabalho existentes.
![]()
| Parâmetro | Especificação | Observações |
|---|---|---|
| Tamanho Máximo do Substrato | ≤12 polegadas | Suporta bolachas e substratos menores |
| Nível de Vácuo | ≤10⁻² Pa | Garante colagem livre de bolhas |
| Faixa de Pressão | 0–5 MPa | Ajustável para compressão uniforme |
| Faixa de Temperatura | Ambiente – 300 °C | Aquecimento opcional para adesivos específicos |
| Tempo de Ciclo | 5–60 min | Ajustável dependendo do substrato e do processo |
| Fonte de Alimentação | 220V / 380V | Monofásico ou trifásico, dependendo da instalação |
| Controle de Movimento | Manual ou semi-automatizado | Permite alinhamento e colagem precisos |
Colagem de Sementes SiC: Colagem de alta precisão de sementes SiC a bolachas ou substratos.
Bolachas de Semicondutores: Colagem de bolachas de camada única ou multicamadas.
Substratos de Grafite: Colagem de papel grafite ou placas para aplicações de alta temperatura.
P&D e Produção Piloto: Colagem em pequena escala ou em escala de pesquisa.
Materiais de Alta Temperatura: Colagem de substratos cerâmicos ou compósitos.
P1: Quais substratos esta máquina de colagem pode manusear?
R1: Bolachas, sementes SiC, papel grafite e placas de grafite, incluindo substratos rígidos e flexíveis.
P2: Como a colagem livre de bolhas é alcançada?
R2: A colagem assistida a vácuo remove o ar aprisionado, garantindo uma camada adesiva livre de defeitos.
P3: A pressão de colagem é ajustável?
R3: Sim, a pressão é ajustável de 0–5 MPa para compressão uniforme da interface.
P4: Esta máquina pode suportar a produção em escala piloto?
R4: Sim, é adequada para pesquisa, escala piloto e produção em pequena escala.
P5: A máquina é fácil de operar?
R5: Sim, o sistema possui uma interface amigável e alinhamento semi-automatizado para fácil operação.