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Detalhes dos produtos

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Equipamento do semicondutor
Created with Pixso. Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite

Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite

Nome da marca: ZMSH
MOQ: 1
Tempo de entrega: 2-4 SEMANAS
Condições de pagamento: T/T
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
Xangai,China
Dimensões da Máquina:
920 × 1060 × 1620 milímetros
Área de revestimento efetiva:
500 × 500 mm
Fonte de energia:
120 V / 220 V ±10%, 50–60 Hz
Tipo de bico:
Ultrassônico, múltiplas opções disponíveis
Espessura do revestimento:
20 nm – dezenas de µm
Taxa de fluxo líquido:
0,006 – 3 ml/s
Posicionamento:
Alinhamento do laser
controle de movimento:
Eixos coordenados XYZ, programáveis ​​de forma independente
entrega líquida:
Fluxo constante com dispersão online
Gestão de resíduos:
Bocal de limpeza automática, reciclagem de resíduos líquidos, sistema de exaustão
Destacar:

Máquina de Deposição de Adesivo Precisa para Revestimento SiC

,

Máquina de Deposição de Adesivo com Operação Automatizada

,

Sistema de Revestimento para Semicondutores com Ampla Compatibilidade

Descrição do produto

Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite


Visão Geral do Produto


A Máquina de Revestimento SiC é um sistema autônomo totalmente automatizado e programável, projetado para a deposição precisa de adesivo entre wafers, sementes de SiC, papel de grafite e placas de grafite.

Garante uma espessura de revestimento controlada e uniforme, evitando acúmulos locais ou pontos finos, e fornece uma base estável para a subsequente desgaseificação a vácuo e sinterização em alta temperatura.

Ideal para produção em escala piloto ou em lotes de médio a grande porte, o sistema suporta alta repetibilidade e qualidade consistente do revestimento.


Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite 0Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite 1


Principais Características


  • Revestimento Preciso: A espessura controlada do adesivo garante a deposição uniforme entre wafers, papel de grafite e placas de grafite.Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite 2

  • Ampla Compatibilidade: Funciona com adesivos contendo partículas sólidas, suportando uma ampla gama de formulações.

  • Operação Automatizada: Controle autônomo programável com movimento XYZ coordenado; adequado para produção em escala de lote ou piloto.

  • Pré-Tratamento Estável: Fornece uma base confiável para a subsequente desgaseificação a vácuo e sinterização em alta temperatura.

  • Alta Repetibilidade: Garante um revestimento consistente em todos os lotes, melhorando o rendimento e a estabilidade do processo.

Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite 3


Especificações


Parâmetro Especificação Observações
Dimensões da Máquina 920 × 1060 × 1620 mm Modelo padrão, personalizável
Área de Revestimento Efetiva 500 × 500 mm Expansível
Fonte de Alimentação 120V / 220V ±10%, 50–60Hz Dependente da região
Tipo de Bico Ultrassônico, múltiplas opções disponíveis Compatível com vários requisitos de espessura de revestimento
Espessura do Revestimento 20 nm – dezenas de µm Controlado com precisão, evita acúmulo local ou revestimento fino
Taxa de Fluxo do Líquido 0,006 – 3 ml/s Depende do solvente e do tipo de bico
Posicionamento Alinhamento a laser Posicionamento preciso do bico
Controle de Movimento Eixos XYZ coordenados, programáveis independentemente Suporta produção em escala de lote ou piloto
Entrega de Líquido Fluxo constante com dispersão online Lida com adesivos contendo sólidos, evita sedimentação
Gerenciamento de Resíduos Bico de autolimpeza, reciclagem de líquido residual, sistema de exaustão Reduz o custo de manutenção
Aquecimento Placa de aquecimento por adsorção a vácuo em escala micrométrica, controle multizona Adequado para substratos flexíveis, como separadores de bateria
Opção de Alta Temperatura Placa quente de até 750°C Permite a preparação de filmes finos por pirólise por spray


Aplicações Típicas


  • Semicondutores e Crescimento de Cristal SiC: Ligação de sementes, preparação de wafers

  • Revestimentos Condutores e Funcionais: SiC, fluxo, revestimentos fotorresistentes

  • Substratos Flexíveis e Separadores de Bateria: Lida com soluções adesivas contendo sólidos

  • Materiais de Vidro e Fotovoltaicos: Revestimento uniforme entre placas e papel de grafite


FAQ – Perguntas Frequentes


P1: A máquina pode lidar com adesivos contendo sólidos?
R1: Sim. A máquina usa entrega de fluxo constante de alta precisão com dispersão online, garantindo a pulverização uniforme de adesivos contendo sólidos sem entupimento do bico.


P2: Quão preciso é o controle da espessura do revestimento?
R2: A espessura do revestimento varia de 20 nm a dezenas de mícrons, com controle preciso para uniformidade e repetibilidade.


P3: Que tipos de substratos são suportados?Máquina de Revestimento SiC – Deposição Precisa de Adesivo para Wafers e Materiais de Grafite 4
R3: Wafers, sementes de SiC, papel de grafite e placas de grafite, incluindo substratos flexíveis com aquecimento assistido a vácuo.


P4: A máquina pode ser usada para produção em lote?
R4: Sim. O controle programável do eixo XYZ suporta produção em escala piloto a lotes de médio a grande porte, com operação paralela de vários bicos.


P5: Como a uniformidade do revestimento é garantida?
R5: Alinhamento a laser, entrega de fluxo constante, sincronização de vários bicos e tecnologia de bico ultrassônico garantem >95% de uniformidade.


P6: A manutenção da máquina é complicada?
R6: Não. A máquina é equipada com bicos de autolimpeza, reciclagem de líquido residual e sistemas de exaustão, minimizando os requisitos de manutenção.