logo
Casa ProdutosEquipamento do semicondutor

Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em Difração de Raios-X para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão

Estou Chat Online Agora

Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em Difração de Raios-X para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão

​​XRD-Based Wafer Orientation Instrument for High-Precision Cutting Angle Determination​​
​​XRD-Based Wafer Orientation Instrument for High-Precision Cutting Angle Determination​​ ​​XRD-Based Wafer Orientation Instrument for High-Precision Cutting Angle Determination​​ ​​XRD-Based Wafer Orientation Instrument for High-Precision Cutting Angle Determination​​ ​​XRD-Based Wafer Orientation Instrument for High-Precision Cutting Angle Determination​​

Imagem Grande :  Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em Difração de Raios-X para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão

Detalhes do produto:
Lugar de origem: China
Marca: ZMSH
Certificação: rohs
Número do modelo: Instrumento de Orientação de Bolacha
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: 3
Preço: by case
Detalhes da embalagem: Pacote em sala limpa de grau 100
Tempo de entrega: 3-6 meses
Termos de pagamento: T/t
Habilidade da fonte: 1000 pcs por mês
Descrição de produto detalhada
Sistema de raios-X.: Tubo de raio X Tamanho da amostra: Wafer: 2–12 polegadas; Lingote: ≤200 mm (diâmetro) × 500 mm (comprimento)
Distância angular: θ: -10° a +50°, 2θ: -10° a +110° Precisão de orientação: ±10″–±30″ (modelos de alta precisão: ±3″)
Movimento de vários eixos: Posicionamento do eixo X/Y/Z, rotação de 360° ±15°, controlo da inclinação Velocidade de varredura: Orientação completa em 10 segundos (totalmente automatizada)
aplicações: Fabricação de semicondutores, processamento de materiais ópticos
Destacar:

Instrumento de Orientação de Bolacha para Determinação do Ângulo de Corte

,

Instrumento de Orientação de Bolacha de Alta Precisão

 Visão Geral do Equipamento do Instrumento de Orientação de Bolacha​

  

Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em Difração de Raios-X para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão 0

 

​​Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em XRD para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão​​

 

 

Um instrumento de orientação de bolacha é um dispositivo de alta precisão baseado na tecnologia de difração de raios X (XRD), projetado para as indústrias de semicondutores e materiais ópticos para determinar a orientação da rede cristalina e os ângulos de corte. Seus componentes principais incluem:

 

  • ​​Sistema de Geração de Raios X​​: Tubos de raios X com alvo de cobre ou molibdênio com tamanho de foco de 0,4×1 mm, tensão do tubo de 30–50 kV e corrente do tubo de 0–5 mA.
  • ​​Goniômetro​​: Design de ligação de eixo duplo (Ω-θ) suportando resolução angular de ±0,001° e análise de curva de rocking.
  • ​​Estágio de Amostra​​: Estrutura de alinhamento em forma de V ou planar, compatível com bolachas de 2–12 polegadas e grandes lingotes (≤20 kg).
  • ​​Módulo de Automação​​: Dispositivo de empilhamento para posicionamento simultâneo de 12 lingotes, aumentando a eficiência da produção.

 

 


 

Especificações Técnicas Abrangentes do Instrumento de Orientação de Bolacha


 

​​Categoria de Parâmetro​​ ​​Parâmetro​​ ​​Especificações/Descrição​​
​​Sistema de Raios X​​


 
Tubo de Raios X Alvo de cobre (Cu), foco de 0,4×1 mm, resfriado a ar
Tensão/Corrente de Raios X 30 kV, 0–5 mA ajustável
Tipo de Detector Tubo Geiger-Müller (baixa energia) ou contador de cintilação (alta energia)
Constante de Tempo 0,1/0,4/3 seg ajustável
​​Goniômetro​​



 
Tamanho da Amostra Bolacha: 2–12 polegadas; Lingote: ≤200 mm (diâmetro) × 500 mm (comprimento)
Faixa Angular θ: -10° a +50°, 2θ: -10° a +110°
Precisão de Orientação ±10″–±30″ (modelos de alta precisão: ±3″)
Resolução Angular Leitura mínima: 1″ (digital) ou 10″ (escala)
Velocidade de Varredura Orientação completa em 10 segundos (totalmente automatizada)
​​Automação e Controle​​

 
Estágio de Amostra Ranhura em V (bolachas de 2–8 polegadas), alinhamento de borda/OF, capacidade de 1–50 kg
Movimento Multi-eixos Posicionamento nos eixos X/Y/Z, rotação de 360° ±15°, controle de inclinação
Interface PLC/RS232/Ethernet, compatível com MES
​​Especificações Físicas​​


 
Dimensões 1130×650×1200 mm (C×L×A)
Peso 150–300 kg
Requisitos de Energia Monofásico 220V±10%, 50/60 Hz, ≤0,5 kW
Nível de Ruído <65 dB (operacional)
​​Recursos Avançados​​

 
Controle de Tensão em Malha Fechada Monitoramento em tempo real, regulação de tensão de 0,1–1,0 MPa
Otimização Impulsionada por IA Detecção de defeitos, alertas de manutenção preditiva
Compatibilidade com Vários Materiais Suporta cristais cúbicos (Si), hexagonais (safira) e assimétricos (YAG)

 

 


 

Instrumento de Orientação de BolachaPrincípio de Funcionamento

 

Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em Difração de Raios-X para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão 1

O dispositivo opera por meio de difração de raios X e tecnologias de varredura Omega:

 

 

​​1. Difração de Raios X​​:

  • Os raios X incidentes na superfície do cristal em ângulos de Bragg geram sinais de difração, permitindo o cálculo do espaçamento da rede e da orientação.
  • A varredura da curva de rocking avalia defeitos da rede e tensão superficial.

​​

 

2. Varredura Omega​​:

  • O cristal gira em torno de um eixo fixo enquanto o tubo de raios X e o detector permanecem estacionários, coletando dinamicamente dados de difração multi-ângulo para mapeamento completo da rede em 5 segundos.
  • O movimento integrado nos eixos X/Y/Z permite a orientação cristalográfica 3D.

​​

Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em Difração de Raios-X para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão 2

3. Controle Automatizado​​:

  • Rotação da amostra controlada por PLC ou computador e aquisição de dados, suportando parâmetros de corte predefinidos (por exemplo, cortes de 8° ou 32° para bolachas de silício).

 

 

 

 


 

Instrumento de Orientação de Bolacha Principais Características e Vantagens​

 

 

​​Recurso​​

 

​​Descrição​​

 

​​Parâmetros Técnicos/Estudos de Caso​​

 

​​Ultra-Alta Precisão​​

 

Precisão de varredura Omega ±0,001°, resolução FWHM da curva de rocking <0,005°

 

Erro de corte da bolacha de carbeto de silício ≤±0,5°

 

​​Medição de Alta Velocidade

​​

Aquisição de varredura única de todos os dados cristalográficos, 200× mais rápido que o manual

 

Teste em lote de bolachas de silício: 120 bolachas/hora

 

​​Compatibilidade com Vários Materiais

​​

Suporta cristais cúbicos (Si), hexagonais (safira) e assimétricos (YAG)

 

Materiais aplicáveis: SiC, GaN, quartzo, granada

 

​​Integração de IA​​

 

Algoritmos de aprendizado profundo para detecção de defeitos, otimização de processos em tempo real

 

A triagem de defeitos reduz a taxa de sucata para <1%

 

​​Design Modular​​

 

Plataforma X-Y expansível para mapeamento 3D ou integração EBSD

 

Detecção de densidade de deslocamento de bolacha de silício ≤100 cm⁻²

 

 

 


 

 

Instrumento de Orientação de Bolacha Campos de Aplicação​

 

Instrumento de Orientação de Bolacha Baseado em Difração de Raios-X para Determinação de Ângulo de Corte de Alta Precisão 3

1. Fabricação de Semicondutores​​:

  • ​​Corte de Bolacha de Silício​​: Determina <100> e <111> orientações, minimizando a perda de corte (<5%).
  • ​​Bolachas de Carbeto de Silício (SiC)​​: O processo de corte de 8° melhora a tensão de ruptura do dispositivo, taxa de perda <10%.

 

2. ​​Processamento de Materiais Ópticos​​:

  • ​​Substratos de Safira​​: Corta chips de LED com precisão de ±0,1° para reduzir a perda de eficiência luminosa.
  • ​​Cristais de Laser YAG​​: Corte preciso de superfícies de ressonador a laser para qualidade de feixe superior.

 

3. ​​Ligas e Cerâmicas de Alta Temperatura​​:

  • ​​Lâminas de Turbina​​: O controle de orientação de liga à base de níquel melhora a resistência a altas temperaturas (>1200°C).
  • ​​Cerâmicas de Zircônia​​: Corta placas traseiras de smartphones com uniformidade de espessura ±0,02 mm.

 

4. ​​Pesquisa e Controle de Qualidade​​:

  • ​​Análise de Defeitos de Cristal​​: Mapeia a densidade de deslocamento por meio de curvas de rocking (<10³ cm⁻²).
  • ​​P&D de Novos Materiais​​: Avalia a orientação da rede de células solares de perovskita para eficiência fotovoltaica.

 

 


 

Instrumento de Orientação de BolachaFAQ

 

 

1. P: Como calibrar um instrumento de orientação de bolacha?​​

​​    R:​​ A calibração envolve o alinhamento da fonte de raios X e do detector usando cristais de referência, geralmente exigindo ​​<0,001° de precisão angular​​ e ajustes de software automatizados para precisão.

 

 

​​2. P: Qual é a precisão típica de um instrumento de orientação de bolacha?​​

​​    R:​​ Modelos de ponta alcançam ​​±0,001° de precisão​​, fundamental para o corte de bolachas de semicondutores e análise de defeitos de cristal em indústrias como fotovoltaica e cerâmica avançada.

 

 

 

Tags: #Instrumento de Orientação de Bolacha, #Baseado em XRD, #Safira, #SiC, #Corte de Alta Precisão, # Determinação de Ângulo​​

 
 

Contacto
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Pessoa de Contato: Mr. Wang

Telefone: +8615801942596

Envie sua pergunta diretamente para nós (0 / 3000)