 
            | Nome da marca: | zmsh | 
| Número do modelo: | Diâmetro de 12' 250 mm ± 0,5 mm Espessura 1000 Um | 
| MOQ: | 3 | 
| preço: | 80 | 
| Tempo de entrega: | 5-6 semanas | 
| Condições de pagamento: | T/T, Western Union | 
12" Wafer de safira 250mm Diâmetro (± 0,5mm) 1000μm Espessura C-Plano
Isto...Wafer de safira de 250 mmO sistema de transmissão de luz de alta precisão (± 0,5 mm de diâmetro, 1000 μm de espessura) e ultra-alta pureza (99,99%) é otimizado para aplicações avançadas de semicondutores e optoeletrônicos.Orientação do plano C (0001)assegura uma qualidade de crescimento epitaxial excepcional para dispositivos baseados em GaN, enquanto o seu grande diâmetro maximiza a eficiência de produção para fabricação em grande volume.Ponto de fusão (000°C), transparência óptica (85%+ de UV a infravermelho médio) e robustez mecânica (9 dureza de Mohs), esta bolacha é ideal para eletrônica de potência, LEDs, sistemas a laser e tecnologias quânticas de ponta.


Características fundamentais da bolacha de safira
A precisão de uma bolacha de safira em formato grande:
Diâmetro: 250 mm ± 0,5 mm, compatível com linhas de fabrico de semicondutores de 12".
Espessura: 1000 μm ± 15 μm, concebido para resistência mecânica e uniformidade de processo.
O Sapphire Wafer.Ultra-alta pureza (4N):
990,99% de Al2O puro₃, eliminando impurezas que degradam o desempenho óptico/elétrico.
O Sapphire Wafer.Propriedades excepcionais do material:
Estabilidade térmica: Ponto de fusão ~ 2,050°C, adequado para ambientes extremos.
Claridade óptica: > 85% de transmissão de 350 nm a 4.500 nm (UV a infravermelho médio).
Dureza: 9 Mohs, resistente a arranhões e corrosão química.
O Sapphire Wafer.Opções de qualidade da superfície:
Polido preparado para epi: Ra < 0,3 nm (medido pelo AFM), ideal para deposição de película fina.
Poluição de dois ladosDisponível para aplicações ópticas de precisão.

Aplicaçõesde Wafer de Safira
Wafer de safira emOptoeletrónica avançada:
Diodos LED/Laser à base de GaN: LEDs azul/UV, VCSELs para LiDAR e detecção 3D.
Display de micro-LED: Substratos uniformes para ecrãs AR/VR de última geração.
Wafer de safira emDispositivos de energia e RF:
Amplificadores de potência 5G/6G: Baixa perda dielétrica a altas frequências.
HEMT e MOSFET: Transistores de alta tensão para veículos eléctricos.
Wafer de safira emIndústria e Defesa:
Janela IR/Cúpulas de mísseis: Transparência em ambientes adversos (por exemplo, no setor aeroespacial).
Sensores de safira: Coberturas resistentes à corrosão para controlo industrial.
Wafer de safira emTecnologias emergentes:
Tecnologia portátil: Vidro de cobertura ultra-durável para smartwatches.

Especificações
| Parâmetro | Valor | 
|---|---|
| Diâmetro | 250 mm ± 0,5 mm | 
| Espessura | 1,000μm ± 15μm | 
| Orientação | Plano C (0001) ±0,2° | 
| Purificação | > 99,99% (4N) | 
| Roughness da superfície (Ra) | < 0,3 nm (pronto para epi) | 
| TTV | < 15 μm | 
| Incline-se. | < 50 mm | 
Equipamentos de fábrica







