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Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: ZMSH

Certificação: rohs

Número do modelo: Equipamento de tecnologia a laser microjet

Termos de pagamento e envio

Quantidade de ordem mínima: 1

Preço: by case

Tempo de entrega: 5-10 meses

Termos de pagamento: T/T

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Destacar:
Purpose::
Microjet laser technology equipment
Volume do balcão::
300*300*150
Positioning accuracy μm::
+/-5
Repeated positioning accuracy μm::
+/-2
Tipo de comando numérico::
DPSS Nd:YAG
Wavelength::
532/1064
Purpose::
Microjet laser technology equipment
Volume do balcão::
300*300*150
Positioning accuracy μm::
+/-5
Repeated positioning accuracy μm::
+/-2
Tipo de comando numérico::
DPSS Nd:YAG
Wavelength::
532/1064
Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício

Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício 0

Resumo de mEquipamento de tecnologia laser icrojet

 

Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício

 

 

Os sistemas Microjet Laser permitem a usinagem de ultra-precisão de materiais semicondutores, acoplando lasers pulsados de alta energia a jatos de líquido em escala de micrômetros (geralmente água desionizada ou líquidos inertes),utilizando os efeitos de condução e arrefecimento dos jatos de líquido.

 

Com alta precisão, baixo dano e alta limpeza, a tecnologia laser microjet está a substituir os processos tradicionais de usinagem e laser seco no campo dos semicondutores,especialmente em semicondutores de terceira geração (SiC/GaN), embalagens 3D e processamento de wafers ultrafinos.

 

 


 

Processamento a laser por microjet

 

 

Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício 1

 

 


 

Especificações técnicas

 

Volume da bancada 300*300*150 400*400*200
Eixo linear XY Motor linear. Motor linear.
Eixo linear Z 150 200
Precisão de posicionamento μm +/-5 +/-5
Precisão de posicionamento repetida μm +/-2 +/-2
Aceleração G 1 0.29
Controle numérico 3 eixos /3+1 eixos /3+2 eixos 3 eixos /3+1 eixos /3+2 eixos
Tipo de comando numérico DPSS Nd:YAG DPSS Nd:YAG
Comprimento de onda nm Outros produtos Outros produtos
Potência nominal W 50/100/200 50/100/200
Jato de água 40 a 100 40 a 100
Barra de pressão do bico 50 a 100 50-600
Dimensões (máquina de trabalho) (largura * comprimento * altura) mm 1445*1944*2260 1700*1500*2120
Dimensão (cabinete de controlo) (W * L * H) 700 * 2500 * 1600 700 * 2500 * 1600
Peso (equipamento) T 2.5 3
Peso (cabinete de controlo) KG 800 800

Capacidade de processamento

A rugosidade da superfície Ra≤1,6um

Velocidade de abertura ≥ 1,25 mm/s

Corte da circunferência ≥ 6 mm/s

Velocidade de corte linear ≥ 50 mm/s

A rugosidade da superfície Ra≤1,2 mm

Velocidade de abertura ≥ 1,25 mm/s

Corte da circunferência ≥ 6 mm/s

Velocidade de corte linear ≥ 50 mm/s

 

Para o cristal de nitruro de gálio, materiais semicondutores de faixa ultra larga (diamante/óxido de gálio), materiais especiais aeroespaciais, substrato cerâmico de carbono LTCC, fotovoltaicos,Processamento de cristais de scintillador e de outros materiais.

Nota: A capacidade de processamento varia em função das características do material

 

 

 


Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício 2

Vantagens técnicas dos equipamentos a laser microjet

 

1- Pequena perda de materiais de processamento e equipamento de processamento


2. Reduzir muito os elos de moagem


3Baixo custo de mão-de-obra do processamento automatizado


4. Máquina de parede e de corte de alta qualidade


5Processamento limpo sem poluição ambiental


6. Alta eficiência de processamento


7. Alto rendimento de transformação

 

 


 

Escrita em wafer de silício por laser microfluídico

 

Teste com os parâmetros de processamento de depuração, e o efeito de corte é mostrado na figura abaixo.A bolacha está completamente arranhada., e a parte de trás da fita de corte (filme UV) é basicamente intacta e não arranhada.

 

 

Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício 3

 

 


 

Perguntas e Respostas

 

1Q: Quais são as principais vantagens dos equipamentos de tecnologia laser microjet?
R: As vantagens dos equipamentos de tecnologia laser microjet incluem processamento de alta precisão, bom efeito de arrefecimento, ausência de zona afectada pelo calor, borda de corte paralela e desempenho de processamento eficiente,que é adequado para o processamento de precisão de materiais duros e frágeis.

 

 

2.P: Em que domínios são utilizados os equipamentos de tecnologia laser microjet?
R: Os equipamentos de tecnologia a laser microjet são amplamente utilizados na terceira geração de semicondutores, materiais aeroespaciais, corte de diamantes, diamante metalizado, substrato cerâmico e outros campos.

 

 


Tag: #Microjet Island equipamento a laser, #tecnologia a laser Microjet, #Processamento de wafer semicondutor, #Wafer slice, #Silicon carbide material, #Wafer dicing, #Metal

 

 

 

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