logo

Máquina de polir robótica para processamento de componentes ópticos planos/esféricos/asféricos

Introdução Principal da Máquina de Polimento Robótica Máquina de Polimento Robótica para Processamento de Componentes Ópticos Planos/Esféricos/Asféricos A máquina de polimento robótica é um equipament... Vista mais
Mensagens do visitante DEIXE UMA MENSAGEM
Máquina de polir robótica para processamento de componentes ópticos planos/esféricos/asféricos
Máquina de polir robótica para processamento de componentes ópticos planos/esféricos/asféricos
Conversar Agora
Aprenda mais
Vídeos relacionados
Equipamento de processamento a laser cromático comutável 355nm/532nm/1064nm 00:29

Equipamento de processamento a laser cromático comutável 355nm/532nm/1064nm

Equipamento do semicondutor
2025-08-18
Sistema de Marcação a Laser Cromático 355nm/532nm/1064nm para Aço Inoxidável 00:26

Sistema de Marcação a Laser Cromático 355nm/532nm/1064nm para Aço Inoxidável

Equipamento do semicondutor
2025-08-18
Equipamento de polimento de uma só face de alta precisão para wafers Si/SiC/safiros 00:21

Equipamento de polimento de uma só face de alta precisão para wafers Si/SiC/safiros

Equipamento do semicondutor
2025-08-15
Equipamento de moagem/polir de dois lados de alta precisão para safira/vidro/quarzo 00:07

Equipamento de moagem/polir de dois lados de alta precisão para safira/vidro/quarzo

Equipamento do semicondutor
2025-08-15
Máquina de Retificação de Precisão de Dupla Face para Metais/Não Metais/Cerâmicas/Plásticos 00:09

Máquina de Retificação de Precisão de Dupla Face para Metais/Não Metais/Cerâmicas/Plásticos

Equipamento do semicondutor
2025-08-15
Máquina de Corte a Laser CO₂ com Tecnologia Laser a Gás para Corte de Tubos 80W-180W 00:30

Máquina de Corte a Laser CO₂ com Tecnologia Laser a Gás para Corte de Tubos 80W-180W

Equipamento do semicondutor
2025-07-28
Máquina de Marcação a Laser CO₂ para Materiais Não Metálicos com Temperatura de Operação 0-50°C 00:42

Máquina de Marcação a Laser CO₂ para Materiais Não Metálicos com Temperatura de Operação 0-50°C

Equipamento do semicondutor
2025-07-28
Máquina de Marcação a Laser UV 355nm 3W-25W para Marcação de Vários Plásticos 00:19

Máquina de Marcação a Laser UV 355nm 3W-25W para Marcação de Vários Plásticos

Equipamento do semicondutor
2025-07-28
Máquina de Marcação a Laser Bombeada por Extremidade 6W-30W Marcação de Alta Precisão Comprimento de Onda 1064nm 00:16

Máquina de Marcação a Laser Bombeada por Extremidade 6W-30W Marcação de Alta Precisão Comprimento de Onda 1064nm

Equipamento do semicondutor
2025-07-28
Máquina de Sistema de Separação a Laser de Substrato SiC de 6 polegadas a 12 polegadas para Wafers Personalizados 00:27

Máquina de Sistema de Separação a Laser de Substrato SiC de 6 polegadas a 12 polegadas para Wafers Personalizados

Equipamento do semicondutor
2025-07-28
Máquina de Marcação a Laser de Fibra 20W-100W para Marcação em Aço Inoxidável/Componentes 00:22

Máquina de Marcação a Laser de Fibra 20W-100W para Marcação em Aço Inoxidável/Componentes

Equipamento do semicondutor
2025-07-28
Sistema de Afinação de Wafer Equipamento de Afinação de Precisão Wafer SiC Si Compativel Capacidade de Wafer de 4 -12 polegadas 00:51

Sistema de Afinação de Wafer Equipamento de Afinação de Precisão Wafer SiC Si Compativel Capacidade de Wafer de 4 -12 polegadas

Equipamento do semicondutor
2025-08-14
Equipamento de Ligação de Wafer Temperatura da Sala Ligação Hidrófila Ligação Si-SiC Ligação Si-Si 2 -12 polegadas 02:09

Equipamento de Ligação de Wafer Temperatura da Sala Ligação Hidrófila Ligação Si-SiC Ligação Si-Si 2 -12 polegadas

Equipamento do semicondutor
2025-04-18
Pad biônico antiderrapante Oferta de baixa adesão de alta fricção carrega copos de sucção de pad biônico de fricção 00:26

Pad biônico antiderrapante Oferta de baixa adesão de alta fricção carrega copos de sucção de pad biônico de fricção

Equipamento do semicondutor
2025-04-14
Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício 00:25

Equipamento de tecnologia de laser microjet para corte de wafer de metal de carburo de silício

Equipamento do semicondutor
2025-04-14