Resumo: Quer saber como ele se compara a outras opções? Veja a demonstração e decida por si mesmo. Neste vídeo, mostramos o SiC Ceramic End Effector em ação, demonstrando suas capacidades precisas de manuseio de wafer em ambientes de processamento de semicondutores corrosivos e de alta temperatura. Você verá como sua construção em SiC de alta pureza garante confiabilidade e baixa geração de partículas para aplicações em salas limpas.
Características do produto relacionadas:
Feito de carboneto de silício (SiC) de alta pureza com pureza ≥99% para desempenho superior.
Suporta temperaturas extremas de até 1600°C, ideal para processos de semicondutores de alta temperatura.
Excelente resistência a ácidos, bases e ambientes de plasma, garantindo estabilidade química.
Alta resistência mecânica com resistência à flexão superior a 400 MPa para durabilidade.
O design de baixa geração de partículas mantém a limpeza em salas limpas Classe 1-100.
Tamanhos personalizáveis disponíveis para wafers de 4 a 12 polegadas com compatibilidade com braço robótico.
Oferece acabamentos de superfície polidos ou foscos para atender às necessidades específicas do usuário.
Garante precisão dimensional e confiabilidade no transporte, gravação e deposição de wafers.
FAQ:
Qual é o material usado para o SiC Ceramic End Effector?
O Efetor Final Cerâmico SiC é feito de Carboneto de Silício (SiC) de alta pureza com pureza ≥99%, proporcionando excelente resistência térmica, resistência mecânica e estabilidade química para ambientes severos de processamento de semicondutores.
Para quais aplicações o SiC Ceramic End Effector é adequado?
É ideal para manuseio de wafer, processamento de semicondutores, como gravação e deposição, integração de braço robótico e teste de embalagens e classificação de chips, garantindo desempenho confiável em vários estágios de fabricação.
O SiC Ceramic End Effector é compatível com ambientes de sala limpa?
Sim, o SiC Ceramic End Effector é adequado para uso em salas limpas Classe 1-100, garantindo limpeza ideal e compatibilidade com ambientes de fabricação de semicondutores ultralimpos.