Resumo: Descubra o Substrato de Carbeto de Silício SiC 4H-SEMI, uma bolacha de alto desempenho ideal para eletrônica de potência, eletrônica automotiva e dispositivos de RF. Disponível em diâmetro de 2 polegadas com opções de espessura de 350um ou 500um, este substrato de grau prime ou dummy oferece dureza e confiabilidade excepcionais para aplicações exigentes.
Características do produto relacionadas:
Feito de monocristal SIC para qualidade e desempenho superiores.
Suporta designs personalizados com requisitos de arte específicos.
Classificação de dureza elevada de aproximadamente 9,2 Mohs para durabilidade.
Amplamente utilizado em indústrias de alta tecnologia como energia e eletrónica automotiva.
Disponível em qualidade prime e qualidade dummy para atender a diversas necessidades.
Polimento Dupla Face com CMP na Face de Si para acabamento superficial liso.
Densidade de microporos tão baixa quanto ≤5 microporos/cm2 para aplicações de alta qualidade.
Especificações personalizáveis para satisfazer os requisitos únicos do projeto.
FAQ:
Como é que a 4H-SiC Semi garante a qualidade das suas wafers?
O Semi de 4H-SiC emprega técnicas avançadas de fabricação, incluindo Deposição Química de Vapor (CVD) e Transporte Físico de Vapor (PVT), e segue rigorosos processos de controle de qualidade para garantir wafers de alta qualidade.
Qual é a principal diferença entre 4H-N SiC e 4H-SEMI SiC?
A principal diferença é que o 4H-N SiC (dopado com nitrogênio) é o carburo de silício semicondutor de tipo n, enquanto o 4H-Semi SiC é o carburo de silício semi-isolante,que tenha sido tratado para ter uma resistência muito elevada.
O substrato 4H-SEMI SiC pode ser personalizado?
Sim, o substrato 4H-SEMI SiC suporta projetos personalizados com obras de arte e especificações específicas para atender aos requisitos únicos do projeto.