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Detalhes dos produtos

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Placa de quartzo fundido
Created with Pixso. Barcos de quartzo de design personalizado para processamento de semicondutores

Barcos de quartzo de design personalizado para processamento de semicondutores

Nome da marca: ZMSH
MOQ: 10
Tempo de entrega: 2-4 semanas
Condições de pagamento: T/T
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
Xangai,China
Material:
Quartzo fundido (SiO₂)
Pureza:
99,99%
Temperatura de trabalho:
Até 1200°C
Ponto de fusão:
1660 - 1710°C
Ponto de ebulição:
4046°C
Densidade:
2.2 g/cm3
Expansão térmica:
0,55 × 10⁻⁶ /°C (baixa expansão térmica)
Índice de refração:
1,46
Condutividade Térmica:
1,3 W/m·K
Descrição do produto

Barcos de quartzo de design personalizado para processamento de semicondutores


Resumo do produto:


Os nossos barcos de quartzo são projetados com precisão para atender às exigências rígidas das indústrias de semicondutores e de processamento químico.com um diâmetro superior a 50 mm,, substratos ou outros materiais através de processos de alta temperatura, tais como difusão, oxidação e deposição química de vapor (CVD).e baixa expansão térmica tornam-no o material ideal para aplicações de alto desempenho em ambientes de salas limpas.


Oferecemos mais de 50 tipos e variações de barcos de quartzo, incluindo projetos personalizados para atender às necessidades específicas do processo.Os nossos barcos de quartzo são feitos para durabilidade e desempenhoAlém disso, prestamos serviços de reparação, incluindo reparação de incêndio, para prolongar a vida útil dos seus componentes de quartzo.


Barcos de quartzo de design personalizado para processamento de semicondutores 0Barcos de quartzo de design personalizado para processamento de semicondutores 1


Especificações do material de quartzo:


Parâmetro Valor
Materiais Quartzo fundido (SiO2)
Purificação 99.99%
Temperatura de funcionamento Até 1200°C
Ponto de fusão 1660 - 1710°C
Ponto de ebulição 4046°C
Densidade 2.2 g/cm3
Expansão térmica 00,55 × 10−6 /°C (baixa expansão térmica)
Índice de refração 1.46
Conductividade térmica 1.3 W/m·K
Força mecânica Alta resistência, adequada para ambientes de alta pressão
Resistência química Resistente à maioria dos produtos químicos, especialmente a altas temperaturas
Transparência Alta transparência para o acompanhamento do processo e para o alinhamento das placas
Resistência a choques térmicos Excelente, resistente a mudanças rápidas de temperatura sem rachaduras


Características principais:


  • Materiais: Quartzo fundido de alta pureza (SiO2)

  • Purificação: 99,99% para contaminação mínima

  • Resistência térmica: Resiste a temperaturas extremas de até 1200°C sem deformação ou degradação

  • Resistência química: Inerte à maioria dos produtos químicos, garantindo a não contaminação durante processos a altas temperaturas

  • Baixa expansão térmica: Garante a estabilidade dimensional durante as rápidas flutuações de temperatura

  • Personalização: Disponível em tamanhos padrão ou personalizados (por exemplo, wafers de 4" ou dimensões personalizadas)

  • Característica do gancho: Disponível com ganchos numa extremidade para fácil inserção e retirada das placas dos fornos


Aplicações:


  1. Fabricação de semicondutores: Detém e transporta wafers de silício durante processos críticos como difusão, oxidação e deposição química de vapor (CVD).

  2. Produção de células solares: essencial na fabricação de células fotovoltaicas para o processamento de wafers de silício, incluindo dopagem e oxidação.

  3. Investigação e Desenvolvimento: Ideal para laboratórios académicos e industriais onde são necessárias aplicações de alta pureza e alta temperatura.

  4. Processamento químico: Adequado para utilização em indústrias de processamento químico onde é necessária uma elevada estabilidade térmica e química.


Variações de projeto:


  • Fragmentos com ranhuras: Diferentes tamanhos de ranhuras para acomodar wafers de espessura variável, com configurações de ranhuras personalizadas disponíveis.

  • Geometria: Tipo U, tipo V ou outras formas personalizadas para as suas necessidades de processo.

  • Projeto do gancho: Equipado com ganchos para facilitar a inserção e a retirada de wafers nos fornos.

  • Tamanhos: Tamanhos padrão para wafers de 100 mm, 150 mm, 200 mm e 300 mm. Tamanhos personalizados disponíveis para necessidades especiais.


Vantagens dos barcos de quartzo:


  • Estabilidade térmica excepcional: Pode suportar temperaturas superiores a 1000°C, ideal para processos de alta temperatura como difusão e recozimento.

  • Ultra-alta pureza: Os baixos níveis de impurezas do quartzo garantem uma contaminação mínima, particularmente crítica para a produção avançada de semicondutores.

  • Precisão dimensional: A baixa expansão térmica do quartzo garante que o barco mantenha a sua forma e alinhamento durante as flutuações de temperatura.

  • Versatilidade: Compatível com vários processos de semicondutores, incluindo LPCVD, oxidação e recozimento.

  • Automatização pronta: Projetado com precisão para integrar-se perfeitamente com sistemas robóticos de manipulação de wafer, minimizando os riscos de manipulação manual.


Quartz Boat FAQ:


P1: Os barcos de quartzo podem ser reutilizados?
Sim, com uma limpeza e manutenção adequadas, os barcos de quartzo podem ser reutilizados várias vezes sem comprometer o desempenho.


P2: Como devem ser limpos os barcos de quartzo?
Os barcos de quartzo devem ser limpos com banhos de ácido ou métodos de limpeza por ultra-som, em conformidade com as normas de salas limpas.


P3: Os barcos de quartzo são compatíveis com todos os tipos de fornos?
Sim, os barcos de quartzo são compatíveis com a maioria dos sistemas de fornos horizontais e verticais utilizados no processamento de semicondutores e fotovoltaicos.


Q4: Que tamanhos estão disponíveis para encomendas personalizadas?
Os barcos de quartzo estão disponíveis em tamanhos padrão para wafers de 100 mm, 150 mm, 200 mm e 300 mm, com personalização adicional disponível para aplicações especializadas.


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