Detalhes dos produtos

Casa PRODUTOS

Jarras de sino de quartzo personalizadas com opções de revestimento para geradores de plasma de semicondutores

Nome da marca:	ZMSH
Número do modelo:	Potes de sino de quartzo
MOQ:	5
preço:	by case
Tempo de entrega:	2-4 semanas
Condições de pagamento:	T/T.

Informações pormenorizadas

Descrição do produto

Informações pormenorizadas

Lugar de origem:

CHINA

Certificação:

rohs

Coeficiente de expansão térmica:

~5,5 × 10⁻⁷/°C

Pureza:

≥99.999%

Resistência à temperatura:

Longo prazo ≥1000°C, curto prazo até 1200°C

Estrutura:

Formato de redoma (cúpula) ou cilíndrico

Transmitância:

Alta transmitância de comprimentos de onda ultravioleta profundo a infravermelho

Vácuo suportável:

Alto vácuo (por exemplo, 10⁻⁶ ~ 10⁻⁹ Torr)

Resistência à corrosão plasmática:

Resiste a gases de processo comuns como CF₄, O₂

Aplicações:

Geradores de Plasma Semicondutores

Detalhes da embalagem:

Pacote em sala de limpeza de 100 graus

Destacar:

Revestimento de Geradores de Plasma para Semicondutores

Geradores de Plasma para Semicondutores Personalizados

Jarras de Sino para Geradores de Plasma para Semicondutores

Descrição do produto

Introdução Principal das Cúpulas de Quartzo

Introdução Principal das Cúpulas de Quartzo da ZMSH

As Cúpulas de Quartzo ZMSH são fabricadas com materiais de quartzo de alta pureza, projetadas especificamente para atender às exigências rigorosas da fabricação moderna de semicondutores e ambientes de processos a vácuo. Aproveitando a excepcional estabilidade térmica e inércia química, este produto demonstra excelente adequação em processos críticos como oxidação de wafers, recozimento de semicondutores e deposição química de vapor (CVD).

Projetadas para integração perfeita, as Cúpulas de Quartzo ZMSH são totalmente compatíveis com vários sistemas e câmaras de vácuo do tipo cúpula, garantindo alto desempenho e confiabilidade operacional. A estrutura de quartzo de alta pureza oferece durabilidade notável e desempenho estável a longo prazo, seja usada em configurações de cúpulas de vácuo de vidro ou em cenários de processos de alta temperatura.

Com base na experiência da ZMSH na fabricação de componentes de quartzo para semicondutores, nossas cúpulas de quartzo não apenas suportam condições de alta temperatura, mas também mantêm a pureza extrema do material durante processos críticos. Essas cúpulas são amplamente aplicáveis tanto em laboratórios de pesquisa quanto em equipamentos industriais, contribuindo para uma maior consistência do processo e melhor eficiência geral dos sistemas de vácuo.

Especificações Técnicas das Cúpulas de Quartzo

A seguir, uma visão geral dos principais parâmetros das cúpulas de quartzo em geradores de plasma de semicondutores, destacando as principais especificações:

Categoria de Parâmetro	Parâmetros Específicos	Observações/Explicação
Propriedades do Material	Pureza: ≥99,999% (grau 5N) Resistência à Temperatura: Longo prazo ≥1000°C, curto prazo até 1200°C Coeficiente de Expansão Térmica: ~5,5 × 10⁻⁷/°C	Alta pureza é fundamental para reduzir a contaminação; baixo coeficiente de expansão garante estabilidade térmica
Dimensões Geométricas	Diâmetro: Até centenas de milímetros (compatível com diferentes ferramentas) Estrutura: Forma de cúpula (Domus) ou cilíndrica	As dimensões devem corresponder à câmara de reação e ao tamanho do substrato
Desempenho Óptico	Transmitância: Alta transmitância do ultravioleta profundo aos comprimentos de onda infravermelhos	Facilita o monitoramento óptico e a detecção do ponto final do processo
Compatibilidade do Processo	Vácuo Suportável: Alto vácuo (por exemplo, 10⁻⁶ ~ 10⁻⁹ Torr) Resistência à Corrosão por Plasma: Resiste a gases de processo comuns como CF₄, O₂	Garante operação estável a longo prazo em ambientes de plasma agressivos

Princípio do Processo das Cúpulas de Quartzo

O papel da cúpula de quartzo em um gerador de plasma de semicondutores pode ser entendido como "criando e protegendo o espaço ideal para reações de plasma".

Estabelecendo um Ambiente Selado: A cúpula de quartzo, combinada com componentes como uma placa de base de metal por meio de vedações (por exemplo, anéis de vedação), forma uma câmara de reação selada. Antes do início do processo, o sistema de vácuo evacua o interior da cúpula para um alto vácuo (por exemplo, da ordem de 10⁻⁶ a 10⁻⁹ Torr), removendo completamente impurezas como umidade e oxigênio do ar, fornecendo um "palco" puro para a reação de plasma.

Injeção e Excitação: Gases de processo de alta pureza (por exemplo, CF₄ para gravação, SiH₄ para deposição ou gás auxiliar Ar) são precisamente controlados e injetados na cúpula. Posteriormente, fontes de energia como micro-ondas ou radiofrequência excitam esses gases, ionizando-os para formar plasma, que contém íons, elétrons e radicais altamente ativos.

Sustentando a Reação: Durante a reação, a estabilidade química e baixa liberação de gases da cúpula de quartzo são cruciais. Ela resiste efetivamente à corrosão e erosão das paredes da câmara pelo plasma, impedindo que a própria cúpula se torne uma fonte de contaminação, garantindo assim a consistência do processo e a pureza do produto do wafer.

Cúpulas de Quartzo de Alta Pureza: Visão Geral das Características Principais

1. Design e Estrutura

Cúpulas de quartzo de design cilíndrico ou em forma de sino cônico com fundo plano e topo aberto facilitam o acesso à amostra e garantem a vedação da câmara para manter ambientes de vácuo ou gás inerte, atendendo aos requisitos de integridade estrutural em condições operacionais adversas.

2. Padrão de Alta Pureza

As cúpulas de quartzo são fabricadas com quartzo fundido de alta pureza para evitar a contaminação da amostra durante os processos, atendendo particularmente às exigências rigorosas de pureza da indústria de semicondutores e fornecendo um ambiente livre de contaminação para aplicações sensíveis.

3. Estabilidade Térmica

As cúpulas de quartzo de resistência excepcional a altas temperaturas mantêm a estabilidade da forma durante os processos de alta temperatura, tornando-as adequadas para cenários de tratamento térmico que exigem controle preciso da temperatura, como oxidação térmica e recozimento.

4. Inércia Química

As cúpulas de quartzo de alta tolerância à maioria dos produtos químicos garantem a estabilidade em ambientes de reação corrosivos, evitando reações com materiais processados e garantindo a precisão e repetibilidade dos resultados do processo.

5. Transparência Óptica

As cúpulas de quartzo de transmitância em todo o espectro de luz ultravioleta a visível suportam o monitoramento visual em tempo real dos processos dentro da câmara, fornecendo informações intuitivas para otimização do processo e observação da pesquisa.

6. Compatibilidade com Vácuo

Os designs de vedação das cúpulas de quartzo, como flanges de vidro moído, permitem a compatibilidade com sistemas de vácuo para manter efetivamente ambientes de vácuo, atendendo aos requisitos do processo para controle preciso da atmosfera, como na deposição química de vapor (CVD).

Principais Áreas de Aplicação das Cúpulas de Quartzo

Com base nas propriedades acima, as cúpulas de quartzo são usadas principalmente nos seguintes processos-chave de fabricação de semicondutores:

Deposição Química de Vapor Aprimorada por Plasma (PECVD): Nos processos PECVD, a cúpula de quartzo fornece um ambiente de reação estável para depositar filmes como nitreto de silício e dióxido de silício. Sua alta pureza e resistência à temperatura garantem a qualidade dos filmes depositados.

Gravação a Seco: Nos processos de gravação, a cúpula de quartzo pode suportar plasmas altamente corrosivos à base de flúor e cloro, protegendo outros componentes da câmara de reação e mantendo a uniformidade e repetibilidade do processo de gravação.
Deposição Química de Vapor por Plasma de Micro-ondas (MPCVD): Em processos avançados como MPCVD para produzir filmes de diamante de alta qualidade e tamanho grande (usados em dissipação de calor de semicondutores, etc.), a cúpula de quartzo é um componente-chave devido à sua capacidade de criar um ambiente de plasma puro.

Sobre a ZMSH

A ZMSH é especializada em fornecer soluções de materiais de alto desempenho para os setores de semicondutores, optoeletrônica e manufatura de ponta. Com capacidades maduras na personalização de componentes-chave para equipamentos de processo de plasma—como cúpulas de quartzo—a ZMSH emprega materiais de quartzo de alta pureza adaptados aos requisitos do cliente para vedação, resistência à temperatura e resistência à corrosão por plasma. A empresa controla com precisão as dimensões, interfaces de flange e transmitância óptica para garantir um desempenho estável em processos de gravação, CVD e outros.

Além disso, a ZMSH fornece uma gama de produtos personalizados, incluindo janelas e substratos ópticos de safira, substratos de dispositivos de energia de carboneto de silício (SiC), wafers de silício, componentes personalizados de quartzo e wafers SOI. Essas ofertas cobrem serviços de cadeia completa, desde a preparação do material até o processamento de precisão (por exemplo, corte, retificação, polimento), atendendo às exigências rigorosas de alta dureza, condutividade térmica e isolamento em indústrias como eletrônicos de consumo, aeroespacial e dispositivos médicos.

Ao integrar P&D de materiais com um sistema de fabricação flexível, a ZMSH permite a prototipagem rápida e a entrega em lote de produtos não padronizados, apoiando a inovação tecnológica e as atualizações de produtos para os clientes.

Cúpulas de Quartzo Perguntas frequentes

1.Q: Qual é a principal função de uma cúpula de quartzo em processos de plasma de semicondutores?

A: A cúpula de quartzo serve como uma câmara selada de alta pureza, fornecendo um ambiente estável para reações de plasma. Sua alta transmitância de luz e resistência à corrosão garantem a uniformidade e os baixos níveis de contaminação em processos como gravação e deposição.

2. Q: Como determinar se uma cúpula de quartzo precisa ser substituída?

A: Uma cúpula de quartzo precisa ser substituída quando a limpeza repetida ou a corrosão por plasma faz com que sua espessura caia abaixo de um limite seguro (por exemplo, a espessura nos principais pontos de medição desvia da faixa de referência), ou quando depósitos superficiais excessivos começam a afetar a estabilidade do plasma.

Tags: #Cúpulas de Quartzo, #Opções de Revestimento,#Tamanhos/Formatos Personalizados, #Geradores de Plasma de Semicondutores, #Personalizado, #Sílica Fundida, #Quartzo Fundido, #Cúpula de Quartzo de Alta Pureza

Etiquetas:

Bolacha do nitreto do gálio

Bolacha da safira

Sic carcaça

Safira Windows ótico

Bolacha de silicone de IC

O fio viu a máquina

Safira sintética Rod

Placa de quartzo fundido

Peças da safira

Pedra preciosa sintética

Equipamento do semicondutor

Bolacha LiNbO3

Bolacha do fosforeto de índio

carcaça cerâmica

Envoltório do laboratório

Bolacha do GaAs