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Envoltório do laboratório
Created with Pixso. Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores

Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores

Nome da marca: ZMSH
MOQ: 5
preço: 100
Tempo de entrega: 3-4 semana
Condições de pagamento: T/t
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
China
Certificação:
rohs
Resistência da superfície:
10⁴~10⁹Ω
Tamanho:
Personalizavel (para wafers de 4 ′′ 12")
Purificação:
990,9%
Densidade:
D=8,91 ((g/cm3)
Diâmetro:
25 a 500 mm
Aplicação:
Teste de embalagem, triagem de chips
Força mecânica:
Resistência à flexão > 400 MPa
Resistividade:
0.1 ~ 60 ohm.cm
resistência térmica:
℃ 1600
Resistência Química:
Resistente a ácidos, bases e plasma
Detalhes da embalagem:
Cushion de espuma + Caixa de cartão
Habilidade da fonte:
mês 1000per
Destacar:

Extrator de extremidade de SiC para processamento de semicondutores

,

Extrator de extremidade de SiC para manuseio de wafers

,

Extrator de extremidade de SiC resistente à corrosão

Descrição do produto

 

Descrição do Produto:

 

Nossos efetuadores finais de SiC são projetados para manuseio de wafers ultralimpos em ambientes de fabricação de semicondutores. Fabricados com carbeto de silício de alta pureza, esses garfos fornecem excepcional resistência térmica, estabilidade química, e resistência mecânica—tornando-os ideais para uso em câmaras de processo agressivas como corrosão, deposição e sistemas de transporte de alta temperatura.

O corpo denso de SiC de grão fino garante baixa geração de partículas, excelente estabilidade dimensional, e compatibilidade com wafers de 200mm a 300mm. Designs personalizados estão disponíveis para braços robóticos e transportadores de wafers específicos.

 


 

Principais Características:

  • Material: Carbeto de Silício de Alta Pureza (SiC)

 

  • Excelente resistência térmica (até 1600°C)

 

  • Resistência superior à corrosão química e por plasma

 

  • Alta resistência mecânica e rigidez

 

  • Baixa geração de partículas para uso em sala limpa

 

  • Disponível para manuseio de wafers de 4", 6", 8" e 12"

 

  • Formatos e ranhuras personalizados para compatibilidade robótica

 


 

 

Especificações do Produto:

 

Parâmetro Especificação
Material SiC de alta pureza (≥99%)
Tamanho Personalizável (para wafers de 4 a 12 polegadas)
Acabamento da Superfície Polido ou fosco conforme necessidade
Resistência Térmica Até 1600°C
Resistência Química Resistente a ácidos, bases e plasma
Resistência Mecânica Resistência à flexão > 400 MPa
Classe de Sala Limpa Adequado para Classe 1–100

 

 

Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores 0Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores 1Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores 2Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores 3Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores 4Extrator de extremidade de SiC de alta pureza para manuseio de wafers Garfo resistente à corrosão e ao calor para processamento de semicondutores 5

 

 

 

 

Palavras-chave / Tags:
 

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