Detalhes do produto:
Condições de Pagamento e Envio:
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Material: | Fusão de sílica | Espessura: | 8,2mm, 8,3 mm |
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Diâmetro/tamanho: | Personalizável | Alcance da transmissão: | 190 nm ~ 2500 nm |
Paralelo: | < 3 arcmin | Opções de revestimento: | Revestimento AR, revestimento refletor, etc. |
Destacar: | 8,3mm JGS1 JGS2,8 |
Fusão de Sílica Óptica de Janela Espessura 8.2mm & 8.3mm JGS1 JGS2
A ZMSH é especializada no fornecimento de janelas ópticas de sílica fundida de alta precisão fabricadas a partir de material de quartzo de alta pureza JGS1/JGS2,assegurando um desempenho de transmissão excepcional entre o espectro ultravioleta e o infravermelho próximo (190 nm ∼ 2500 nm)As nossas janelas de quartzo apresentam um rigoroso controlo de espessura (8,2 mm e 8,3 mm, tolerância ± 0,1 mm), tornando-as ideais para sistemas ópticos de alta precisão.e tratamentos de superfície, satisfazem exigências rigorosas em tecnologia a laser, análise espectroscópica, fabricação de semicondutores e pesquisa científica.Com tecnologias avançadas de usinagem e um rigoroso sistema de gestão da qualidade, cada janela garante uma elevada homogeneidade óptica, um baixo coeficiente de expansão térmica e uma resistência superior a altas temperaturas, garantindo um desempenho fiável em ambientes extremos.
Parâmetro | 8Janela de 2 mm | 8Janela de.3mm |
Materiais | Silicio fundido (JGS1/JGS2) | Silicio fundido (JGS1/JGS2) |
Tolerância de espessura | ± 0,1 mm | ± 0,1 mm |
Transmissão | > 93% (200 nm ≈ 2500 nm) | > 93% (200 nm ≈ 2500 nm) |
Qualidade da superfície | 60/40 (substituível por 20/10) | 60/40 (substituível por 20/10) |
Paralelo | 3 minutos | 3 minutos |
Opções de revestimento | Revestimentos AR UV/Vis/NIR | Revestimentos AR UV/Vis/NIR |
Aplicações típicas | Laser de alta potência, espectrômetros | Litografia por semicondutores, pontos de visão a vácuo |
(Nota: Parâmetros adicionais, tais como diâmetro, camadas, etc., podem ser personalizados mediante pedido.)
- Não.
1. Alta transmissão
· Transmissão em banda larga de UV para NIR (190nm 2500nm), particularmente otimizada para sistemas ópticos de ultravioleta profunda (DUV) e infravermelho.
· Uma baixa taxa de absorção minimiza a perda de energia, aumentando a eficiência do sistema.
2Estabilidade térmica excepcional.
· Coeficiente de expansão térmica ultra-baixo (5,5×10−7/°C) e resistência a altas temperaturas (~1200°C), adequado para lasers de alta potência e condições térmicas extremas.
· Excelente resistência a choques térmicos, resistente a rápidas flutuações de temperatura sem rachaduras.
3Inercia química superior
· Resistente a ácidos fortes, álcalis e solventes orgânicos, ideal para ambientes corrosivos.
· Tratamentos de superfície opcionais (por exemplo, revestimentos AR, camadas hidrofóbicas) para aplicações especializadas.
4Um limiar elevado de danos por laser.
· Compatível com sistemas a laser de alta energia (por exemplo, lasers CO2, lasers UV) devido à excepcional resistência a danos induzidos por laser.
· Disponíveis revestimentos ópticos personalizados (por exemplo, AR, HR) para otimizar a transmissão/reflexão em comprimentos de onda específicos.
5Performance óptica de precisão
· Planura da superfície até λ/4 (@632.8nm) e paralelismo <3 arcmin, satisfazendo requisitos de alinhamento óptico rigorosos.
· Baixo teor de bolhas/impurezas garante a uniformidade óptica, minimizando a dispersão e a distorção da frente de onda.
1Sistemas ópticos a laser
· Janela de cavidade a laser, óptica protetora para corte/soldagem a laser de alta potência e dispositivos de laser médicos.
· Preferido para lasers UV (por exemplo, lasers excimer) devido à excelente durabilidade UV.
2Instrumentação espectroscópica
• As janelas de transmissão dos espectrómetros UV-Vis e dos espectrómetros FTIR, garantindo uma elevada relação sinal/ruído.
· Aplicações de ultravioleta de vácuo (VUV), incluindo a detecção de radiação sincrotron.
3Semicondutores e Litografia
· Componentes ópticos para máquinas de litografia e sistemas de inspecção de wafers, resistentes à radiação DUV e à deformação térmica.
· Crítico para a proteção de máscaras e óptica de projeção em nós avançados.
4Pesquisa científica e física de alta energia
• janelas de observação para detectores de partículas e instalações de sincrotron, combinando resistência à radiação com uma elevada transparência.
· Portas de visão seladas para ambientes de vácuo/alta pressão (por exemplo, microscópios eletrônicos, experimentos com plasma).
5. Aeronautica e dispositivos médicos
• Janela de protecção para sensores ópticos aeroespaciais, resistente a temperaturas extremas e radiação cósmica.
· Componentes biocompativeis para endoscópios e sistemas médicos de terapia a laser.
A ZMSH oferece serviços de personalização abrangentes para prismas de sílica fundida, incluindo prismas retângulos, pentagonais e de cunha, adaptados para alinhamento a laser, direção de feixe,e aplicações espectroscópicasUtilizando material JGS1/JGS2 de alta pureza, os nossos prismas proporcionam baixa absorção e alta transmissão (190nm~2500nm), com usinagem de ângulo de precisão (tolerância de ±30 arcsec) e polimento de superfície λ/10.Os clientes podem especificar as dimensõesApoia-se a prototipagem rápida, produção em lote e embalagens compatíveis com a ISO ou resistentes a choques para garantir a entrega segura.Equipado com usinagem CNC e teste de interferômetro ZygoGarantimos uma resposta rápida e um rigoroso controlo de qualidade para atender aos exigentes padrões dos sectores da investigação, indústria e defesa.
1Q: Qual é a faixa de transmissão de janelas de sílica fundida de 8,2 mm/8,3 mm?
R: As nossas janelas de sílica fundida de 8,2 mm/8,3 mm fornecem uma excelente transmissão de 190 nm a 2500 nm.
2Q: Quais são as principais aplicações das janelas de quartzo de 8,3 mm de espessura?
R: As janelas de quartzo de 8,3 mm são usadas principalmente em sistemas a laser, espectroscopia UV e equipamentos de semicondutores.
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Pessoa de Contato: Mr. Wang
Telefone: +8615801942596