Detalhes do produto
Lugar de origem: China
Marca: ZMSH
Certificação: rohs
Número do modelo: Pins de elevação de safira
Termos de pagamento e envio
Preço: by case
Tempo de entrega: 2-4weeks
Termos de pagamento: T/T
Materiais:: |
Al2O3 monocristalino |
Densidade:: |
30,98 g/cm3 |
Dureza:: |
9 (mohs) |
Cor:: |
Transparente |
Tamanho:: |
Personalizado |
Método do crescimento:: |
KY |
Materiais:: |
Al2O3 monocristalino |
Densidade:: |
30,98 g/cm3 |
Dureza:: |
9 (mohs) |
Cor:: |
Transparente |
Tamanho:: |
Personalizado |
Método do crescimento:: |
KY |
A ZMSH é especializada na produção de pinos de elevação de safira, com foco no P&D, fabricação e vendas de materiais de cristais de safira.Os alfinetes de safira são conhecidos por sua resistência excepcional, alta dureza, resistência à corrosão e propriedades ópticas superiores, tornando-os ideais para a fabricação de equipamentos de ponta e aplicações de usinagem de precisão.A ZMSH oferece serviços de processamento personalizados, capaz de conceber e produzir pinos de elevação de safira em várias especificações para satisfazer diversas exigências industriais.
Composição química |
Al2O3 monocristalino |
Dureza |
9Mohs |
Natureza óptica |
Uniaxial |
Índice de refração |
1.762-1.770 |
Birefringence |
0.008-0.010 |
Dispersão |
Baixo, 0.018 |
Lustre |
Cobre |
Pleocroísmo |
Moderado a Forte |
Diâmetro |
0.4 mm-30 mm |
Tolerância de diâmetro |
0.004mm-0.05mm |
comprimento |
2 mm-150 mm |
Tolerância de comprimento |
00,03 mm-0,25 mm |
Qualidade da superfície |
40/20 |
Superfície redonda |
RZ0.05 |
Forma personalizada |
ambas as extremidades planas, um raio de uma extremidade, ambos os raios de duas extremidades, |
Os pinos de elevação de safira são componentes críticos em equipamentos de fabricação de semicondutores e LED, usados principalmente para transferência e posicionamento de wafer.
1Suporte de wafer e movimento vertical
Em processos de deposição de filme fino (por exemplo, MOCVD), gravação ou litografia, braços robóticos acionam pinos de elevação de safira para elevar do chão da câmara, suportando precisamente as wafers (por exemplo,Substratos de 2/4/6 polegadas) mantendo a posição de nível para facilitar as operações de carga e descarga.
2. Desempenho estável em ambientes de alta temperatura
O zafiro (Al2O3 de cristal único) possui um ponto de fusão ultra-alto de 2050°C, permitindo uma operação prolongada acima de 1000°C (por exemplo,O crescimento epitaxial de GaN) sem o risco de deformação térmica ou de contaminação da bolacha, típicos de alfinetes metálicos.
3. Inercia química para a integridade do processo
Com uma resistência excepcional a ácidos, álcalis e ambientes de plasma, o safiro impede a liberação de impurezas durante os processos de gravação ou CVD,assegurar a pureza de fabrico (particularmente crítico para semicondutores de banda larga como SiC/GaN).
Principais vantagens
1Contaminação ultra-baixa: em comparação com as alternativas metálicas (por exemplo, molibdênio) ou cerâmicas (por exemplo, AlN), o safiro gera uma perda mínima de partículas, atendendo aos padrões de sala limpa da Classe 10.
2. Dureza excepcional (Mohs 9): a resistência à arranhão da superfície estende a vida útil para além de 100.000 ciclos 5-8 vezes mais do que os pinos de quartzo.
3. Coeficiente de expansão térmica combinado: o alinhamento próximo com as wafers SiC/GaN (~ 7,5×10−6/°C) minimiza a deformação ou rachadura induzida por estresse térmico.
1. Produção de Wafer Epitaxial LED: Suporta substratos de safira durante o crescimento epitaxial de GaN em reatores MOCVD.
2. Fabricação de semicondutores de potência: permite processos de implantação de íons ou recozimento a alta temperatura para wafers de SiC.
3Embalagem avançada: garante um posicionamento de precisão a nível de micrômetros para wafers ultrafinos (espessura < 100μm) em embalagens a nível de wafer (WLP).
A ZMSH é especializada em barras de safira de alta qualidade, projetadas para uma resistência superior, estabilidade térmica e resistência à corrosão.Oferecemos usinagem de precisão para atender às especificações exactas.
1.P: Para que são usados os pinos de elevação de safira?
R: Os pinos de elevação de safira são usados principalmente na fabricação de semicondutores e LEDs para manuseio preciso de wafer devido à sua alta dureza, estabilidade térmica e resistência química.
2.P: Por que escolher alfinetes de safira em vez de alternativas metálicas ou cerâmicas?
R: Os pinos de elevação de safira superam as opções de metal e cerâmica com resistência superior ao desgaste, geração mínima de partículas e maior duração em ambientes de alta temperatura ou corrosivos.
Tag: #Sapphire Lift Pins, #Forma e tamanho personalizados, #Sapphire Rods, #Precision Manufacturing, #Industrial Applications, #Wafer Handling