Enviar mensagem
PRODUTOS
PRODUTOS
Casa > PRODUTOS > Sic carcaça > 4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer

4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer

Detalhes do produto

Lugar de origem: China

Marca: ZMSH

Número do modelo: Substrato SiC

Termos de pagamento e envio

Tempo de entrega: 2-4 semanas

Termos de pagamento: T/T

Obtenha o melhor preço
Destacar:

Substrato de SiC de 500um

,

Substrato de SiC de grau P

,

Substrato de SiC de 2 polegadas

Materiais:
monocristal SiC
Dia:
500,8 mm ± 0,38 mm
Grau:
Grau P ou grau D
Espessura:
350 um ou 500 um
orientação:
No eixo: <0001> +/- 0,5 deg
Resistividade:
≥1E5 Ω·cm
Materiais:
monocristal SiC
Dia:
500,8 mm ± 0,38 mm
Grau:
Grau P ou grau D
Espessura:
350 um ou 500 um
orientação:
No eixo: <0001> +/- 0,5 deg
Resistividade:
≥1E5 Ω·cm
4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer

Wafer de SiC, Wafer de Carbono de Silício, Substrato de SiC, Substrato de Carbono de Silício, Grau P, Grau D, 2 polegadas de SiC, 4 polegadas de SiC, 6 polegadas de SiC, 8 polegadas de SiC, 12 polegadas de SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, tipo HPSI


Cerca de 4H-SEMI SiC4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 0

  • usar SIC Monocrystal para fazer

  • Apoiar os personalizados com obras de arte de design

  • de alta qualidade, adequado para aplicações de alto desempenho

  • alta dureza, cerca de 9,2 Mohs

  • amplamente utilizado em áreas de alta tecnologia, como eletrônica de potência, eletrônica automotiva e dispositivos RF

- Não.


Descrição do 4H-SEMI SiC

O carburo de silício (SiC) é um semicondutor versátil conhecido por seu desempenho em aplicações de alta potência e alta frequência.

Sua ampla faixa de banda permite uma operação eficiente em altas tensões e temperaturas, tornando-a adequada para eletrônicos de potência, dispositivos de RF e ambientes adversos.

O SiC é parte integrante de indústrias como automotiva e energia devido à sua confiabilidade e eficiência.

Métodos de fabricação avançados, como a deposição química de vapor (CVD) e o transporte físico de vapor (PVT), garantem componentes de alta qualidade e duráveis.

4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 1

As propriedades únicas do SiC também o tornam ideal para optoeletrônica de comprimento de onda curto, ambientes de alta temperatura, resistência à radiação e sistemas eletrônicos exigentes.

A ZMSH oferece uma gama de wafers de SiC, incluindo os tipos 6H e 4H, independentemente do tipo N, do tipo SEMI ou do tipo HPSI, garantindo um suprimento estável e de alta qualidade,e custo-eficácia através de processos de produção em larga escala.


Características do4H-SEMI SiC

Especificação do substrato de carburo de silício semi-isolante de 4 polegadas de diâmetro 4H
Propriedade do substrato Grau de produção Grau de simulação
Diâmetro 50.8.0 mm +0.0/-0.38 mm
Orientação da superfície no eixo: {0001} ± 0,2°
Orientação plana primária < 11-20> ± 5,0 ̊
Orientação plana secundária 90.0 ̊ CW a partir de Primary ± 5.0 ̊, silício para cima
Duração plana primária 32.5 mm ± 2,0 mm
Duração plana secundária 18.0 mm ± 2,0 mm
Borda da bolacha Chamfer
Densidade dos microtubos ≤ 5 micropipes/cm2 ≤ 50 micropipes/cm2
Áreas de politipo por luz de alta intensidade Nenhum permitido Área ≤ 10%
Resistividade 0.015~0.028Ω·cm (área 75%)
0.015~0.028Ω·cm
Espessura 350.0 μm ± 25,0 μm ou 500.0 μm ± 25,0 μm
TTV ≤ 10 μm ≤ 15 μm
BOW (valor absoluto) ≤ 25 μm ≤ 30 μm
Warp. ≤ 45 μm
Revestimento de superfície Polish de duas faces, Si Face CMP (poluição química)
Superfície rugosa CMP Si Face Ra≤0,5 nm N/A
Fissuras causadas por luz de alta intensidade Nenhum permitido
Chips/indentes de borda por iluminação difusa Nenhum permitido Qty.2 < 1,0 mm de largura e profundidade
Área total utilizável ≥ 90% N/A
Nota: As especificações personalizadas que não os parâmetros acima são aceitáveis.

Mais amostras de 4H-SEMI SiC

4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 2

* Por favor, sinta-se à vontade para nos contactar se tiverem exigências personalizadas.

Recomendações de produtos similares

1.4Inch 4H-N Silicon Carbide SiC Substrate Dia 100mm N tipo P grau D grau espessura 350um personalizado

4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 3

2.4H-N Silicon Carbide SiC Substrate 8 polegadas espessura 350um 500um P grau D grau Wafer SiC

4H-SEMI Substrato de carburo de silício SiC 2 polegadas espessura 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 4

Perguntas frequentes

1Q.:Como é que a 4H-SiC Semi garante a qualidade das suas wafers?

R: O 4H-SiC Semi utiliza técnicas de fabrico avançadas, incluindo a deposição química de vapor (CVD) e o transporte físico de vapor (PVT),e segue rigorosos processos de controlo de qualidade para garantir que as placas sejam de elevada qualidade.

2. P: Qual é a principal diferença entre 4H-N SiC e 4H-SEMI SiC

R: A principal diferença entre o 4H-N SiC e o 4H-SEMI SiC é que o 4H-N SiC (dopado com nitrogênio) é um carburo de silício semicondutor de tipo n, enquanto o 4H-Semi SiC é um carburo de silício semi-isolante,que tenha sido tratado para ter uma resistência muito elevada.

Produtos similares