O carbeto de silício (SiC) tornou-se um material fundamental para a eletrônica de potência de próxima geração, sistemas de alta temperatura e dispositivos de alta frequência. O que torna o SiC único é que ele pode cristalizar em muitos politipos—mais de 200 foram identificados—mesmo que todos compartilhem a mesma fórmula química. Dentre estes, 4H-SiC e 6H-SiC são, de longe, os mais importantes comercialmente.
De fora, eles parecem semelhantes: ambos são politipos hexagonais com alta condutividade térmica, forte ligação covalente e grandes bandas proibidas. No entanto, diferenças sutis no empilhamento atômico lhes dão comportamentos eletrônicos distintos e determinam como são usados em dispositivos semicondutores.
Este artigo fornece uma explicação clara e original de como 4H-SiC e 6H-SiC diferem em estrutura cristalina, propriedades físicas e aplicações práticas.
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O SiC é composto por camadas alternadas de silício e carbono. Embora cada camada tenha a mesma disposição atômica, sua ordem de empilhamento pode mudar. Essa sequência de empilhamento é o que gera diferentes politipos.
Uma analogia simples é empilhar cartas de baralho idênticas em diferentes padrões de deslocamento. As cartas não mudam, mas a forma geral muda.
Em SiC:
um padrão curto e repetitivo cria um politipo como 4H,
enquanto um padrão mais longo cria 6H.
Mesmo pequenas mudanças estruturais são suficientes para alterar a estrutura da banda, os níveis de energia e a mobilidade dos portadores.
A sequência de empilhamento se repete a cada quatro camadas
A simetria do cristal é hexagonal
A constante de rede do eixo C é aproximadamente 10,1 Å
Como sua sequência de empilhamento é mais curta e mais uniforme, o cristal resultante exibe menos anisotropia e propriedades eletrônicas mais consistentes em diferentes direções.
A sequência de empilhamento se repete a cada seis camadas
Simetria do cristal hexagonal
A constante de rede do eixo C é aproximadamente 15,1 Å
A distância de repetição mais longa cria múltiplos sítios atômicos não equivalentes, tornando a estrutura da banda mais complexa e levando à mobilidade dos portadores dependente da direção.
| Propriedade | 4H-SiC | 6H-SiC |
|---|---|---|
| Bandgap (Eg) | ~3,26 eV | ~3,02 eV |
| Mobilidade de elétrons (cm²/V·s) | ~900 (paralelo ao plano c) | ~400–500 |
| Campo elétrico de ruptura | ~3 MV/cm | Ligeiramente inferior a 4H-SiC |
| Velocidade de saturação de elétrons | Mais alta | Mais baixa |
4H-SiC oferece:
bandgap mais alta
campo de ruptura mais alto
transporte de elétrons mais rápido
Essas características o tornam especialmente adequado para dispositivos de alta tensão e alta frequência.
6H-SiC, embora ainda seja um material de grande banda proibida, mostra menor mobilidade devido à sequência de empilhamento mais complexa.
Ambos os politipos compartilham as mesmas fortes ligações covalentes Si–C, dando-lhes:
alta condutividade térmica
excelente resistência mecânica
resistência à radiação e corrosão química
Os valores de condutividade térmica são semelhantes:
4H-SiC ≈ 4,9 W/cm·K
6H-SiC ≈ 4,7 W/cm·K
As diferenças são muito pequenas para influenciar significativamente a seleção do dispositivo.
4H-SiC é dominante em:
MOSFETs
Diodos Schottky
Módulos de potência
Interruptores de alta tensão
Conversores de alta frequência
Sua mobilidade de elétrons e campo de ruptura superiores melhoram diretamente a eficiência do dispositivo, a velocidade de comutação e a robustez térmica. É por isso que quase todos os dispositivos de potência SiC modernos são baseados em 4H-SiC.
6H-SiC é usado em:
Dispositivos de micro-ondas
Optoeletrônica
Substratos para epitaxia GaN
Fotodetectores UV
Aplicações de pesquisa especializadas
Como suas propriedades eletrônicas variam com a direção do cristal, ele às vezes permite comportamentos de material que não são alcançáveis com 4H-SiC.
Se o objetivo for:
tensão mais alta
maior eficiência
frequência de comutação mais alta
menor perda de condução
então 4H-SiC é a escolha clara.
Se a aplicação envolver:
pesquisa de materiais experimentais
comportamento RF de nicho
compatibilidade com dispositivos legados
então 6H-SiC continua útil.
Embora 4H-SiC e 6H-SiC compartilhem a mesma composição elementar, suas diferentes sequências de empilhamento criam paisagens eletrônicas distintas. Para a eletrônica de potência moderna, 4H-SiC oferece desempenho superior e se tornou o politipo dominante da indústria. Enquanto isso, 6H-SiC continua a desempenhar um papel importante nos campos especializados de optoeletrônica e RF.
A compreensão dessas diferenças estruturais e eletrônicas ajuda os engenheiros a escolher o material mais adequado para dispositivos semicondutores de próxima geração.
O carbeto de silício (SiC) tornou-se um material fundamental para a eletrônica de potência de próxima geração, sistemas de alta temperatura e dispositivos de alta frequência. O que torna o SiC único é que ele pode cristalizar em muitos politipos—mais de 200 foram identificados—mesmo que todos compartilhem a mesma fórmula química. Dentre estes, 4H-SiC e 6H-SiC são, de longe, os mais importantes comercialmente.
De fora, eles parecem semelhantes: ambos são politipos hexagonais com alta condutividade térmica, forte ligação covalente e grandes bandas proibidas. No entanto, diferenças sutis no empilhamento atômico lhes dão comportamentos eletrônicos distintos e determinam como são usados em dispositivos semicondutores.
Este artigo fornece uma explicação clara e original de como 4H-SiC e 6H-SiC diferem em estrutura cristalina, propriedades físicas e aplicações práticas.
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O SiC é composto por camadas alternadas de silício e carbono. Embora cada camada tenha a mesma disposição atômica, sua ordem de empilhamento pode mudar. Essa sequência de empilhamento é o que gera diferentes politipos.
Uma analogia simples é empilhar cartas de baralho idênticas em diferentes padrões de deslocamento. As cartas não mudam, mas a forma geral muda.
Em SiC:
um padrão curto e repetitivo cria um politipo como 4H,
enquanto um padrão mais longo cria 6H.
Mesmo pequenas mudanças estruturais são suficientes para alterar a estrutura da banda, os níveis de energia e a mobilidade dos portadores.
A sequência de empilhamento se repete a cada quatro camadas
A simetria do cristal é hexagonal
A constante de rede do eixo C é aproximadamente 10,1 Å
Como sua sequência de empilhamento é mais curta e mais uniforme, o cristal resultante exibe menos anisotropia e propriedades eletrônicas mais consistentes em diferentes direções.
A sequência de empilhamento se repete a cada seis camadas
Simetria do cristal hexagonal
A constante de rede do eixo C é aproximadamente 15,1 Å
A distância de repetição mais longa cria múltiplos sítios atômicos não equivalentes, tornando a estrutura da banda mais complexa e levando à mobilidade dos portadores dependente da direção.
| Propriedade | 4H-SiC | 6H-SiC |
|---|---|---|
| Bandgap (Eg) | ~3,26 eV | ~3,02 eV |
| Mobilidade de elétrons (cm²/V·s) | ~900 (paralelo ao plano c) | ~400–500 |
| Campo elétrico de ruptura | ~3 MV/cm | Ligeiramente inferior a 4H-SiC |
| Velocidade de saturação de elétrons | Mais alta | Mais baixa |
4H-SiC oferece:
bandgap mais alta
campo de ruptura mais alto
transporte de elétrons mais rápido
Essas características o tornam especialmente adequado para dispositivos de alta tensão e alta frequência.
6H-SiC, embora ainda seja um material de grande banda proibida, mostra menor mobilidade devido à sequência de empilhamento mais complexa.
Ambos os politipos compartilham as mesmas fortes ligações covalentes Si–C, dando-lhes:
alta condutividade térmica
excelente resistência mecânica
resistência à radiação e corrosão química
Os valores de condutividade térmica são semelhantes:
4H-SiC ≈ 4,9 W/cm·K
6H-SiC ≈ 4,7 W/cm·K
As diferenças são muito pequenas para influenciar significativamente a seleção do dispositivo.
4H-SiC é dominante em:
MOSFETs
Diodos Schottky
Módulos de potência
Interruptores de alta tensão
Conversores de alta frequência
Sua mobilidade de elétrons e campo de ruptura superiores melhoram diretamente a eficiência do dispositivo, a velocidade de comutação e a robustez térmica. É por isso que quase todos os dispositivos de potência SiC modernos são baseados em 4H-SiC.
6H-SiC é usado em:
Dispositivos de micro-ondas
Optoeletrônica
Substratos para epitaxia GaN
Fotodetectores UV
Aplicações de pesquisa especializadas
Como suas propriedades eletrônicas variam com a direção do cristal, ele às vezes permite comportamentos de material que não são alcançáveis com 4H-SiC.
Se o objetivo for:
tensão mais alta
maior eficiência
frequência de comutação mais alta
menor perda de condução
então 4H-SiC é a escolha clara.
Se a aplicação envolver:
pesquisa de materiais experimentais
comportamento RF de nicho
compatibilidade com dispositivos legados
então 6H-SiC continua útil.
Embora 4H-SiC e 6H-SiC compartilhem a mesma composição elementar, suas diferentes sequências de empilhamento criam paisagens eletrônicas distintas. Para a eletrônica de potência moderna, 4H-SiC oferece desempenho superior e se tornou o politipo dominante da indústria. Enquanto isso, 6H-SiC continua a desempenhar um papel importante nos campos especializados de optoeletrônica e RF.
A compreensão dessas diferenças estruturais e eletrônicas ajuda os engenheiros a escolher o material mais adequado para dispositivos semicondutores de próxima geração.