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Bolacha do nitreto do gálio do semicondutor, molde N da carcaça de GaN - tipo - 2 polegadas
  • Bolacha do nitreto do gálio do semicondutor, molde N da carcaça de GaN - tipo - 2 polegadas
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Bolacha do nitreto do gálio do semicondutor, molde N da carcaça de GaN - tipo - 2 polegadas

Lugar de origem China
Marca zmkj
Número do modelo GaN-2INCH 10x10mm
Detalhes do produto
Materiais:
Único cristal de GaN
Método:
HVPE
Tamanho:
2inch ou 10x10mm
Espessura:
430um ou personalizado
indústria:
LD, conduzido, dispositivo do laser, detector,
Pacote:
cante o cassettle da bolacha pelo pacote do vácuo
Realçar: 

carcaça gan

,

molde gan

Descrição do produto


molde das carcaças de 2inch GaN, bolacha para LeD, bolacha semiconducting para o ld, molde de GaN do nitreto do gálio de GaN, bolacha do mocvd GaN, carcaças autônomas pelo tamanho personalizado, bolacha pequena para o diodo emissor de luz, bolacha 10x10mm de GaN de GaN do tamanho do nitreto do gálio do mocvd, 5x5mm, bolacha de 10x5mm GaN

 

 

  1. Iii-nitreto (GaN, AlN, pensão)

O nitreto do gálio é um tipo de semicondutores compostos de largo-Gap. A carcaça do nitreto do gálio (GaN) é

uma carcaça de alta qualidade do único-cristal. É feita com método de HVPE e tecnologia de processamento originais da bolacha, que foi desenvolvida originalmente para 10+years em China. As características são uniformidade altamente cristalina, boa, e qualidade de superfície superior. As carcaças de GaN são usadas para muitos tipos dos pedidos, para o diodo emissor de luz branco e o LD (violeta, azul e verde) além disso, desenvolvimento progrediu para aplicações do dispositivo eletrónico do poder e da alta frequência.

 

    Tampa proibida da largura de banda (luminescente e absorção) o ultravioleta, a luz visível e o infravermelho.
GaN pode ser usado em muitas áreas tais como a exposição de diodo emissor de luz, a detecção alta-tensão e a imagem latente,

  1. Exposição da projeção do laser, dispositivo de poder, etc.
  2. Armazenamento da data
  3. iluminação Energia-eficiente
  4. Exposição do fla da cor completa 
  5. Laser Projecttions
  6. Dispositivos eletrónicos de grande eficacia 
  7. Dispositivos de alta frequência da micro-ondas
  8. A detecção alta-tensão e imagina
  9. Tecnologia nova do hidrogênio do solor da energia 
  10. Detecção do ambiente e medicina biológica
  11. Faixa do terahertz da fonte luminosa

 
Especificações:

  Carcaças autônomas de GaN (tamanho personalizado)
Artigo GaN-FS-10 GaN-FS-15
Dimensões 10.0mm×10.5mm 14.0mm×15.0mm
Densidade do defeito de Marco Um nível 0 cm-2
Nível de B ≤ 2 cm-2
Espessura Grau 300 300 µm do ± 25
Grau 350 350 µm do ± 25
Grau 400 400 µm do ± 25
Orientação ± 0.5° da C-linha central (0001)
TTV (variação total da espessura) µm ≤15
CURVA µm ≤20
Tipo da condução N-tipo Semi-isolamento
Resistividade (300K) < 0=""> >106 Ω·cm
Densidade de deslocação Menos do que 5x106 cm-2
Área de superfície útil > 90%
Polonês Superfície dianteira: Ra < 0="">
Superfície traseira: Terra fina
Pacote Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100, em uns únicos recipientes da bolacha, sob uma atmosfera do nitrogênio.

Bolacha do nitreto do gálio do semicondutor, molde N da carcaça de GaN - tipo - 2 polegadas 0

Artigo GaN-FS-N-1.5
Dimensões ± 0.5mm de Ф 25.4mm ± 0.5mm de Ф 38.1mm ± 0.5mm de Ф 40.0mm ± 0.5mm de Ф 45.0mm
Densidade do defeito de Marco Um nível ≤ 2 cm-2
Nível de B > 2 cm-2
Espessura 300 µm do ± 25
Orientação ± 0.5° da C-linha central (0001)
Orientação lisa ± 0.5° (de 1-100) ± 0.5° (de 1-100) ± 0.5° (de 1-100) ± 0.5° (de 1-100)
8 ± 1mm 12 ± 1mm 14 ± 1mm 14 ± 1mm
Orientação secundária lisa ± 3° (de 11-20) ± 3° (de 11-20) ± 3° (de 11-20) ± 3° (de 11-20)
4 ± 1mm 6 ± 1mm 7 ± 1mm 7 ± 1mm
TTV (variação total da espessura) µm ≤15
CURVA µm ≤20
Tipo da condução N-tipo Semi-isolamento
Resistividade (300K) < 0=""> >106 Ω·cm
Densidade de deslocação Menos do que 5x106 cm-2
Área de superfície útil > 90%
Polonês Superfície dianteira: Ra < 0="">
Superfície traseira: Terra fina
Pacote Empacotado em um ambiente do quarto desinfetado da classe 100, em uns únicos recipientes da bolacha, sob uma atmosfera do nitrogênio.

Bolacha do nitreto do gálio do semicondutor, molde N da carcaça de GaN - tipo - 2 polegadas 1
Bolacha do nitreto do gálio do semicondutor, molde N da carcaça de GaN - tipo - 2 polegadas 2

 Nossa visão da empresa de Factroy
nós forneceremos a carcaça de alta qualidade de GaN e a tecnologia da aplicação para a indústria nossa fábrica.
GaNmaterial de alta qualidade é o fator de restrição para a aplicação dos Iii-nitretos, por exemplo longa vida
e estabilidade alta LDs, poder superior e dispositivos altos da micro-ondas da confiança, brilho alto
e eficiência elevada, diodo emissor de luz da economia de energia.
 
- FAQ –
Q: Que você pode fornecer a logística e o custo?
(1) nós aceitamos DHL, Fedex, TNT, UPS, EMS, SF e etc.
(2) se você tem seu próprio número expresso, é grande.
Se não, nós poderíamos ajudar-lhe a entregar. Freight=USD25.0 (o primeiro peso) + USD12.0/kg
 
Q: Que é o prazo de entrega?
(1) para os produtos padrão tais como a bolacha de 2inch 0.33mm.
Para o inventário: a entrega é 5 dias úteis após a ordem.
Para produtos personalizados: a entrega é as 2 ou 4 semanas de trabalho após a ordem.

Q: Como pagar?
100%T/T, Paypal, união ocidental, MoneyGram, pagamento seguro e segurança do comércio.
 
Q: Que é o MOQ?
(1) para o inventário, o MOQ é 5pcs.
(2) para produtos personalizados, o MOQ é 5pcs-10pcs.
Depende da quantidade e das técnicas.
 
Q: Você tem o relatório de inspeção para o material?
Nós podemos fornecer relatórios do relatório e do alcance de ROHS para nossos produtos.
 
 

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